本发明公开了一种微加工连线方法，包括步骤：在振元电极表面旋涂光刻胶，形成绝缘隔离层；通过曝光机，采用四面反射镜，对所述振元电极进行掩膜曝光处理，并在曝光后进行显影处理，在所述绝缘隔离层上开出连接窗口；在所述绝缘隔离层上溅射导电层，并进行掩膜曝光处理，形成连接线路。
通过采用本发明提供的一种微加工连线方法，能够将超声面阵振元连接做得非常小，可靠性很高，该方法非常适合运用于高频超声面阵振元连接中，且充分体现了高频超声换能器的性能。

吴大伟 王黎 陈磊

广州联声电子科技有限公司

510000 广东省广州市广州经济技术开发区开创大道1501号1栋408房

本发明公开了一种微加工连线方法，包括步骤：在振元电极表面旋涂光刻胶，形成绝缘隔离层；通过曝光机，采用四面反射镜，对所述振元电极进行掩膜曝光处理，并在曝光后进行显影处理，在所述绝缘隔离层上开出连接窗口；在所述绝缘隔离层上溅射导电层，并进行掩膜曝光处理，形成连接线路。
通过采用本发明提供的一种微加工连线方法，能够将超声面阵振元连接做得非常小，可靠性很高，该方法非常适合运用于高频超声面阵振元连接中，且充分体现了高频超声换能器的性能。