本发明公开了一种非球面光学元器件抛光工艺，属于光学元器件加工领域。
本发明的非球面光学元器件抛光工艺的实施过程如下：设置磁流变液以及磁场；所述磁流变液在所述磁场的作用下形成环形抛光工具；所述环形抛光工具与待抛光的加工工件接触并产生相对运动，以对待抛光的加工表面进行抛光。
本发明的非球面光学元器件抛光工艺可以高效的对非球面光学元器件表面进行抛光处理。

吴勇波 冯铭 王腾蛟

南方科技大学

518055 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号

本发明公开了一种非球面光学元器件抛光工艺，属于光学元器件加工领域。
本发明的非球面光学元器件抛光工艺的实施过程如下：设置磁流变液以及磁场；所述磁流变液在所述磁场的作用下形成环形抛光工具；所述环形抛光工具与待抛光的加工工件接触并产生相对运动，以对待抛光的加工表面进行抛光。
本发明的非球面光学元器件抛光工艺可以高效的对非球面光学元器件表面进行抛光处理。