本发明提供凹凸图案的形成方法，其为可用于制作电子器件、光学部件、记录介质等的纳米压印加工法，可以廉价且高速地制造这种具有微细图案的产品。
所述凹凸图案的形成方法的特征在于包括如下工序：将具有微细凹凸图案的压模的该表面载置于光固化性转印片的转印层并按压来形成层叠体的工序；通过紫外线照射来使带有压模的层叠体的转印层固化、接着除去压模而得到转印层的表面具有微细反转凹凸图案的中间压模的工序；将中间压模的反转凹凸图案的表面载置于光固化性转印片的转印层并按压来形成层叠体的工序；以及通过紫外线照射来使带有中间压模的层叠体的转印层固化、接着除去中间压模而得到转印层的表面具有与压模相同的微细凹凸图案的光固化性转印片的工序。

稻宫隆人 甲斐田荣三

株式会社普利司通

日本东京都

本发明提供凹凸图案的形成方法，其为可用于制作电子器件、光学部件、记录介质等的纳米压印加工法，可以廉价且高速地制造这种具有微细图案的产品。
所述凹凸图案的形成方法的特征在于包括如下工序：将具有微细凹凸图案的压模的该表面载置于光固化性转印片的转印层并按压来形成层叠体的工序；通过紫外线照射来使带有压模的层叠体的转印层固化、接着除去压模而得到转印层的表面具有微细反转凹凸图案的中间压模的工序；将中间压模的反转凹凸图案的表面载置于光固化性转印片的转印层并按压来形成层叠体的工序；以及通过紫外线照射来使带有中间压模的层叠体的转印层固化、接着除去中间压模而得到转印层的表面具有与压模相同的微细凹凸图案的光固化性转印片的工序。