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专利摘要

本发明提供一种气体分离膜,其用于对含有凝聚性气体的混合原料气体进行提纯,分离能力优异,并且凝聚性气体气氛下的气体透过速度可长时间保持高速状态。
所述气体分离膜,其是用于对含有凝聚性气体的混合原料气体进行提纯的气体分离膜,其中,该气体分离膜在多孔性基材膜上具有分离活性层,沿着该气体分离膜的膜厚方向剖面上的该多孔性基材膜与该分离活性层的边界线,该多孔性基材膜不具有致密层、或者具有其厚度不足1μm且平均孔径不足0.01μm的致密层,并且,设该多孔性基材膜的自该分离活性层侧起至2μm深的平均孔径为A、至10μm深的平均孔径为B时,A为0.05μm以上0.5μm以下,并且比例A/B大于0且为0.9以下。

专利状态

基础信息

专利号
CN201780045676.4
申请日
2017-08-07
公开日
2021-06-29
公开号
CN109475823B
主分类号
/B/B32/ 作业;运输
标准类别
层状产品
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

山中梓 栗下泰孝 美河正人 村上公也 川岛政彦

申请人

旭化成株式会社

申请人地址

日本东京都

专利摘要

本发明提供一种气体分离膜,其用于对含有凝聚性气体的混合原料气体进行提纯,分离能力优异,并且凝聚性气体气氛下的气体透过速度可长时间保持高速状态。
所述气体分离膜,其是用于对含有凝聚性气体的混合原料气体进行提纯的气体分离膜,其中,该气体分离膜在多孔性基材膜上具有分离活性层,沿着该气体分离膜的膜厚方向剖面上的该多孔性基材膜与该分离活性层的边界线,该多孔性基材膜不具有致密层、或者具有其厚度不足1μm且平均孔径不足0.01μm的致密层,并且,设该多孔性基材膜的自该分离活性层侧起至2μm深的平均孔径为A、至10μm深的平均孔径为B时,A为0.05μm以上0.5μm以下,并且比例A/B大于0且为0.9以下。

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