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专利摘要

无有机沉积相3D打印氮氧化硅墨水的制备方法及其应用,涉及一种3D打印氮氧化硅墨水的制备方法及其应用。
为了现有3D打印墨水中含有大量有机沉积相导致的排胶后在陶瓷坯体内部会留下气孔、变形或开裂等缺陷的问题。
制备:将氮化硅、二氧化硅和烧结助剂混合,球磨、干燥和筛选得到混合粉体,然后加入四乙二醇二甲醚和正己醇,机械搅拌,即完成。
上述无有机沉积相3D打印氮氧化硅墨水在3D打印制备陶瓷构件中的应用。
本发明无有机沉积相3D打印氮氧化硅墨水中的四二乙醇二甲醚和正己醇仅需通过养护和干燥便能去除,不需要排胶处理,避免了陶瓷坯体排胶后坯体内部缺陷的产生。
本发明适用于制备3D打印氮氧化硅墨水和应用。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910202328.4
申请日
2019-03-15
公开日
2019-05-17
公开号
CN109761623A
主分类号
/B/B33/ 作业;运输
标准类别
附加制造技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

杨治华 金海泽 贾德昌 钟晶 蔡德龙 李海亮

申请人

哈尔滨工业大学

申请人地址

150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

专利摘要

无有机沉积相3D打印氮氧化硅墨水的制备方法及其应用,涉及一种3D打印氮氧化硅墨水的制备方法及其应用。
为了现有3D打印墨水中含有大量有机沉积相导致的排胶后在陶瓷坯体内部会留下气孔、变形或开裂等缺陷的问题。
制备:将氮化硅、二氧化硅和烧结助剂混合,球磨、干燥和筛选得到混合粉体,然后加入四乙二醇二甲醚和正己醇,机械搅拌,即完成。
上述无有机沉积相3D打印氮氧化硅墨水在3D打印制备陶瓷构件中的应用。
本发明无有机沉积相3D打印氮氧化硅墨水中的四二乙醇二甲醚和正己醇仅需通过养护和干燥便能去除,不需要排胶处理,避免了陶瓷坯体排胶后坯体内部缺陷的产生。
本发明适用于制备3D打印氮氧化硅墨水和应用。

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