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专利摘要

本申请提供一种光学直角反射镜及其制造方法,该方法用于在单晶硅基片上制造光学直角反射镜,该方法包括:在基片的表面形成蚀刻掩模,所述蚀刻掩模具有使所述基片的表面露出的开口,所述基片是单晶硅片;对形成有蚀刻掩模的所述基片进行湿法腐蚀,以形成刻槽,所述刻槽至少具有相互垂直的两侧壁,两个所述侧壁是硅(110)晶面,并且两个所述侧壁与所述基片表面夹角为45°;以及在所述刻槽的两个所述侧壁覆盖光反射层,以在所述刻槽中形成直角反射镜。
根据本申请的方法制造直角反射镜,其光学质量好、精度高、体积小、成本低,并且可以方便制造阵列式的多槽直角反射镜,从而获得较大面积的直角反射镜。

专利状态

基础信息

专利号
CN201610038072.4
申请日
2016-01-20
公开日
2017-07-28
公开号
CN106986299A
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

吴亚明 翟雷应 徐静

申请人

上海新微技术研发中心有限公司

申请人地址

201800 上海市嘉定区城北路235号3号楼

专利摘要

本申请提供一种光学直角反射镜及其制造方法,该方法用于在单晶硅基片上制造光学直角反射镜,该方法包括:在基片的表面形成蚀刻掩模,所述蚀刻掩模具有使所述基片的表面露出的开口,所述基片是单晶硅片;对形成有蚀刻掩模的所述基片进行湿法腐蚀,以形成刻槽,所述刻槽至少具有相互垂直的两侧壁,两个所述侧壁是硅(110)晶面,并且两个所述侧壁与所述基片表面夹角为45°;以及在所述刻槽的两个所述侧壁覆盖光反射层,以在所述刻槽中形成直角反射镜。
根据本申请的方法制造直角反射镜,其光学质量好、精度高、体积小、成本低,并且可以方便制造阵列式的多槽直角反射镜,从而获得较大面积的直角反射镜。

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