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专利摘要

对薄膜施加第1调制电压,将在薄膜中流过的电流的相位相对第1调制电压的相位的变化量与阈值进行比较,在检测到相位的变化量超过阈值时停止施加第1调制电压,从而在薄膜中高速地形成纳米孔隙。

专利状态

基础信息

专利号
CN201680090509.7
申请日
2016-12-09
公开日
2019-06-14
公开号
CN109890497A
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

柳川善光 武田健一 柳至 后藤佑介 松井一真

申请人

株式会社日立高新技术

申请人地址

日本东京都

专利摘要

对薄膜施加第1调制电压,将在薄膜中流过的电流的相位相对第1调制电压的相位的变化量与阈值进行比较,在检测到相位的变化量超过阈值时停止施加第1调制电压,从而在薄膜中高速地形成纳米孔隙。

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