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专利摘要

本发明提供了能够有效地防止条痕的产生,并且能够扩大溶胶组合物选择范围的用于形成铁电薄膜的组合物、铁电薄膜以及铁电薄膜的制造方法。
通过使含有作为铁电薄膜形成材料的金属化合物的用于形成铁电薄膜的组合物包含下述的疏水性化合物,可以有效地抑制条痕的产生,并能够扩大溶胶组合物的选择范围,其中所述疏水性化合物具有与羟基反应的反应基团,同时除所述反应基团之外的余下部分的至少端部侧具有疏水性。

专利状态

基础信息

专利号
CN200410062547.0
申请日
2004-06-30
公开日
2007-07-04
公开号
CN1323979C
主分类号
/C/C01/ 化学;冶金
标准类别
无机化学
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
失效

发明人

角浩二

申请人

精工爱普生株式会社

申请人地址

日本东京都

专利摘要

本发明提供了能够有效地防止条痕的产生,并且能够扩大溶胶组合物选择范围的用于形成铁电薄膜的组合物、铁电薄膜以及铁电薄膜的制造方法。
通过使含有作为铁电薄膜形成材料的金属化合物的用于形成铁电薄膜的组合物包含下述的疏水性化合物,可以有效地抑制条痕的产生,并能够扩大溶胶组合物的选择范围,其中所述疏水性化合物具有与羟基反应的反应基团,同时除所述反应基团之外的余下部分的至少端部侧具有疏水性。

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