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专利摘要

本公开提供一种耐磨超双疏自清洁贴膜,该耐磨超双疏自清洁贴膜至少具有本体层,本体层的上表面具有排列为阵列的多个微结构,微结构的形状为沿着从贴膜表面到底面的方向横截面积逐渐减小的微腔,微腔中填充有超疏水纳米材料。
本公开还提供耐磨超双疏自清洁贴膜的制备方法。
本公开的耐磨超双疏自清洁贴膜具有很高的普适性和通用性,通过微结构与超双疏纳米材料复合,构成贴膜的超双疏层,大幅提高超双疏自清洁表面的机械稳定性,有效解决了贴膜表面超双疏性能、高透光率和机械稳定性无法兼具的问题。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010494031.2
申请日
2020-06-03
公开日
2020-07-28
公开号
CN111454000A
主分类号
/C/C03/ 化学;冶金
标准类别
玻璃;矿棉或渣棉
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

邓旭 王德辉

申请人

电子科技大学

申请人地址

610054 四川省成都市成华区建设北路二段4号电子科技大学基础与前沿学院

专利摘要

本公开提供一种耐磨超双疏自清洁贴膜,该耐磨超双疏自清洁贴膜至少具有本体层,本体层的上表面具有排列为阵列的多个微结构,微结构的形状为沿着从贴膜表面到底面的方向横截面积逐渐减小的微腔,微腔中填充有超疏水纳米材料。
本公开还提供耐磨超双疏自清洁贴膜的制备方法。
本公开的耐磨超双疏自清洁贴膜具有很高的普适性和通用性,通过微结构与超双疏纳米材料复合,构成贴膜的超双疏层,大幅提高超双疏自清洁表面的机械稳定性,有效解决了贴膜表面超双疏性能、高透光率和机械稳定性无法兼具的问题。

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