本发明公开了一种低温红釉及其制备方法，低温红釉所使用的釉料含有的组分及各组分质量百分比如下：二氧化硅65％，三氧化二铝20％，三氧化二铁0.05％，氧化钾2.8％，氧化钠2.3％，氧化镁0.14％，氧化钙0.3％，硒6％，氧化钛0.01％，其余为不可避免的杂质，总计100％。
本发明可以大大降低釉的膨胀系数，从而使釉与坯的膨胀系数相匹配，防止出现剥釉的现象。

童新田 张支清

湖南德兴瓷业有限公司

412200 湖南省株洲市醴陵市孙家湾镇孙家湾村荷塘组

本发明公开了一种低温红釉及其制备方法，低温红釉所使用的釉料含有的组分及各组分质量百分比如下：二氧化硅65％，三氧化二铝20％，三氧化二铁0.05％，氧化钾2.8％，氧化钠2.3％，氧化镁0.14％，氧化钙0.3％，硒6％，氧化钛0.01％，其余为不可避免的杂质，总计100％。
本发明可以大大降低釉的膨胀系数，从而使釉与坯的膨胀系数相匹配，防止出现剥釉的现象。