本发明公开了一种甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法，将合成的甘草酸二铵粗品用混合溶剂进行一次脱色重结晶，离心过滤，减压干燥，放置吸水吸潮后抽滤继续减压干燥得甘草酸二铵原料药，经检测，所得甘草酸二铵原料药的残留溶剂乙醇≤2000ppm，远低于中国药典甘草酸二铵原料药残留溶剂质量标准≤5000ppm，外观为晶型较大的白色颗粒晶体，纯度高，稳定性好。

魏利强 李闪闪 傅收 梁永义 吴银强 罗明 石艳彩 王心久

河南慧锦药业有限公司

461100 河南省许昌市许昌县张潘镇工业园区

本发明公开了一种甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法，将合成的甘草酸二铵粗品用混合溶剂进行一次脱色重结晶，离心过滤，减压干燥，放置吸水吸潮后抽滤继续减压干燥得甘草酸二铵原料药，经检测，所得甘草酸二铵原料药的残留溶剂乙醇≤2000ppm，远低于中国药典甘草酸二铵原料药残留溶剂质量标准≤5000ppm，外观为晶型较大的白色颗粒晶体，纯度高，稳定性好。