目录

专利摘要

本揭示提供一种盖板的制作方法、显示面板及显示装置。
所述方法包括:步骤S10:将聚合物溶于含有光引发剂的溶剂中,得到溶液;步骤S20:提供柔性衬底,将所述溶液涂布于所述柔性衬底上;以及步骤S30:对涂布于所述柔性衬底上的所述溶液依次进行干燥制程和光照制程,形成硬化层;其中,所述聚合物含有硅羟基团和锗羟基团。
通过对含锗羟基团和硅羟基团的硬化层进行修饰,提高所述硬化层表面的疏水性并改善所述硬化层表面的硬度和光学性能。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910526414.0
申请日
2019-06-18
公开日
2021-07-23
公开号
CN110349508B
主分类号
/C/C08/ 化学;冶金
标准类别
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

赵远

申请人

武汉华星光电半导体显示技术有限公司

申请人地址

430079 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室

专利摘要

本揭示提供一种盖板的制作方法、显示面板及显示装置。
所述方法包括:步骤S10:将聚合物溶于含有光引发剂的溶剂中,得到溶液;步骤S20:提供柔性衬底,将所述溶液涂布于所述柔性衬底上;以及步骤S30:对涂布于所述柔性衬底上的所述溶液依次进行干燥制程和光照制程,形成硬化层;其中,所述聚合物含有硅羟基团和锗羟基团。
通过对含锗羟基团和硅羟基团的硬化层进行修饰,提高所述硬化层表面的疏水性并改善所述硬化层表面的硬度和光学性能。

相似专利技术