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专利摘要

[目的]提供一种含聚硅氮烷的覆膜形成用组合物。
为了形成具有加工性且致密的二氧化硅质膜,对该组合物进行基于二阶段转化的加工,所述二阶段转化包括:通过将聚硅氮烷组合物在朝向二氧化硅质物质的转化不充分的状态下形成表面干燥了的膜;然后接受二次加工。
[手段]本发明提供一种含聚硅氮烷的覆膜形成用组合物,其包含特定的胺类化合物、聚硅氮烷化合物以及溶剂,本发明还提供一种二氧化硅质物质的形成方法,其中,将该组合物涂布于基材上,转化为二氧化硅质物质。
该特定的胺类化合物具有二个胺基,在胺基中具有至少1个由苯基取代了的烃基。

专利状态

基础信息

专利号
CN201780026971.5
申请日
2017-04-28
公开日
2021-07-27
公开号
CN109072006B
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

野岛由雄 小林政一

申请人

AZ电子材料(卢森堡)有限公司

申请人地址

卢森堡国卢森堡市

专利摘要

[目的]提供一种含聚硅氮烷的覆膜形成用组合物。
为了形成具有加工性且致密的二氧化硅质膜,对该组合物进行基于二阶段转化的加工,所述二阶段转化包括:通过将聚硅氮烷组合物在朝向二氧化硅质物质的转化不充分的状态下形成表面干燥了的膜;然后接受二次加工。
[手段]本发明提供一种含聚硅氮烷的覆膜形成用组合物,其包含特定的胺类化合物、聚硅氮烷化合物以及溶剂,本发明还提供一种二氧化硅质物质的形成方法,其中,将该组合物涂布于基材上,转化为二氧化硅质物质。
该特定的胺类化合物具有二个胺基,在胺基中具有至少1个由苯基取代了的烃基。

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