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专利摘要

本发明属于方酸菁染料技术领域,尤其涉及一种吲哚方酸菁染料及其制备方法和应用。
本发明提供了一种吲哚方酸菁染料,所述吲哚方酸菁染料的结构式如式(I)所示;其中,R为苯基、蒽基或芘基。
本发明吲哚方酸菁染料在近红外区具有高摩尔消光系数,在近红外区域强吸收,在敏化单线态氧中具有明显的效果,可作为三重态光敏剂,在光动力治疗领域具有很好的应用前景,能够解决现有方酸菁染料用于光动力治疗存在单线态氧量子产率低的问题。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910532107.3
申请日
2019-06-19
公开日
2021-01-26
公开号
CN110128844B
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

籍少敏 张碧玮 霍延平 梁亮 梁辉

申请人

广东工业大学

申请人地址

510060 广东省广州市越秀区东风东路729号大院

专利摘要

本发明属于方酸菁染料技术领域,尤其涉及一种吲哚方酸菁染料及其制备方法和应用。
本发明提供了一种吲哚方酸菁染料,所述吲哚方酸菁染料的结构式如式(I)所示;其中,R为苯基、蒽基或芘基。
本发明吲哚方酸菁染料在近红外区具有高摩尔消光系数,在近红外区域强吸收,在敏化单线态氧中具有明显的效果,可作为三重态光敏剂,在光动力治疗领域具有很好的应用前景,能够解决现有方酸菁染料用于光动力治疗存在单线态氧量子产率低的问题。

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