本发明提供可以以更高的研磨速度对单质硅进行研磨的研磨用组合物。
本发明的研磨用组合物用于对包含单质硅和除单质硅以外的含硅化合物的研磨对象物进行研磨的用途，该研磨用组合物包含磨粒和分散介质，前述磨粒的单位表面积的硅烷醇基数超过0个/nm2且为2.0个/nm2以下。

井泽由裕

福吉米株式会社

日本爱知县

本发明提供可以以更高的研磨速度对单质硅进行研磨的研磨用组合物。
本发明的研磨用组合物用于对包含单质硅和除单质硅以外的含硅化合物的研磨对象物进行研磨的用途，该研磨用组合物包含磨粒和分散介质，前述磨粒的单位表面积的硅烷醇基数超过0个/nm2且为2.0个/nm2以下。