本发明涉及用于化学机械抛光的浆料组合物、其制法、抛光方法、制造半导体器件的方法和抛光设备。用于化学机械抛光工艺的浆料组合物包括分散介质、和具有结合至其表面的NO
金礼桓 白云揆 徐智训
三星电子株式会社 汉阳大学校产学协力团
韩国京畿道