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专利摘要

本发明提供一种抛光组合物,其在与已知的CMP组合物相比降低的凹陷减少剂(DR)水平下实现了最小限度的凹陷。
本公开的组合物包含允许组合物中凹陷减少剂水平较低的动态表面张力降低剂(DSTR)。
实际上,本公开的组合物允许较低水平的凹陷减少剂实现与具有较高水平的凹陷减少剂的已知组合物相同的凹陷。
因此当采用本公开的组合物时,避免了高DR水平的有害作用或使其最小化。

专利状态

基础信息

专利号
CN201711498020.6
申请日
2017-12-29
公开日
2018-07-10
公开号
CN108264850A
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

詹姆斯·麦克多诺

申请人

富士胶片平面解决方案有限公司

申请人地址

美国亚利桑那州

专利摘要

本发明提供一种抛光组合物,其在与已知的CMP组合物相比降低的凹陷减少剂(DR)水平下实现了最小限度的凹陷。
本公开的组合物包含允许组合物中凹陷减少剂水平较低的动态表面张力降低剂(DSTR)。
实际上,本公开的组合物允许较低水平的凹陷减少剂实现与具有较高水平的凹陷减少剂的已知组合物相同的凹陷。
因此当采用本公开的组合物时,避免了高DR水平的有害作用或使其最小化。

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