本发明公开了一种GLSI多层布线高价金属在CMP中的应用，为化学机械抛光平坦化提高稳定性提供一种新技术。
所述多层布线高价金属的化合物替代氧化剂。
CMP所用抛光液中含有与布线金属种类相同的布线高价金属化合物。
采用本发明技术方案的抛光液可以稳定6个月以上，直接使用。
使用时，不用专用设备的配置，简化了工艺，大大提高了抛光液的稳定性。
而且，运输保存安全，不对设备产生腐蚀，使用更安全。

刘玉岭 王辰伟 罗翀

河北工业大学 天津晶岭微电子材料有限公司

300130 天津市红桥区光荣道29号河北工业大学南院微电子所

本发明公开了一种GLSI多层布线高价金属在CMP中的应用，为化学机械抛光平坦化提高稳定性提供一种新技术。
所述多层布线高价金属的化合物替代氧化剂。
CMP所用抛光液中含有与布线金属种类相同的布线高价金属化合物。
采用本发明技术方案的抛光液可以稳定6个月以上，直接使用。
使用时，不用专用设备的配置，简化了工艺，大大提高了抛光液的稳定性。
而且，运输保存安全，不对设备产生腐蚀，使用更安全。