公开了一种酸性化学机械抛光组合物，其包含具有正ζ电势的胶体二氧化硅磨料颗粒以及选择的烷氧基硅烷琥珀酸酐化合物以增强减少诸如二氧化硅和氮化硅的衬底的介电材料上的缺陷。
还公开了用于用所述酸性化学机械抛光组合物抛光衬底以移除诸如二氧化硅和氮化硅的所述介电材料的一些的方法。

郭毅 D·莫斯利

罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

美国特拉华州

公开了一种酸性化学机械抛光组合物，其包含具有正ζ电势的胶体二氧化硅磨料颗粒以及选择的烷氧基硅烷琥珀酸酐化合物以增强减少诸如二氧化硅和氮化硅的衬底的介电材料上的缺陷。
还公开了用于用所述酸性化学机械抛光组合物抛光衬底以移除诸如二氧化硅和氮化硅的所述介电材料的一些的方法。