本发明公开了一种硅片碱抛后清洗用添加剂，由1～3质量份柠檬酸、0.3～0.5质量份月桂醇聚氧乙烯醚、1～2质量份乙二醇、1～2质量份硫酸钠、2～3质量份氯化钠和85～97质量份水组成。
本发明的添加剂可以直接应用于现有清洗设备上，对碱抛后的硅片进行清洗时，在清洗液中加入本发明的添加剂，可改善硅片清洗效果，对多种痕量级杂质有强力的去除作用，且不会形成新的沾污，可通过改善硅片表面的清洁度来提升电池效率。

于胤 陈盼盼 杨勇 章圆圆

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213300 江苏省常州市溧阳市溧城镇吴潭渡路8号

本发明公开了一种硅片碱抛后清洗用添加剂，由1～3质量份柠檬酸、0.3～0.5质量份月桂醇聚氧乙烯醚、1～2质量份乙二醇、1～2质量份硫酸钠、2～3质量份氯化钠和85～97质量份水组成。
本发明的添加剂可以直接应用于现有清洗设备上，对碱抛后的硅片进行清洗时，在清洗液中加入本发明的添加剂，可改善硅片清洗效果，对多种痕量级杂质有强力的去除作用，且不会形成新的沾污，可通过改善硅片表面的清洁度来提升电池效率。