本文公开了用于剥离膜厚度为3‑150μm的光刻胶图案的光刻胶清洁组合物,其包含(a)季铵氢氧化物、(b)水溶性有机溶剂的混合物、(c)至少一种腐蚀抑制剂和(d)水,及用该光刻胶清洁组合物处理衬底的方法。
R·L-K·常 G·E·帕里斯 陈秀美 李翊嘉 刘文达 陈天牛 L·M·马兹 R·L·C·洛 孟令人
弗萨姆材料美国有限责任公司
美国亚利桑那州
本文公开了用于剥离膜厚度为3‑150μm的光刻胶图案的光刻胶清洁组合物,其包含(a)季铵氢氧化物、(b)水溶性有机溶剂的混合物、(c)至少一种腐蚀抑制剂和(d)水,及用该光刻胶清洁组合物处理衬底的方法。