一种处理传感器阵列的方法，所述传感器阵列包括多个传感器，优选CHEMFET，以及隔离结构，其中所述多个传感器的一个传感器具有暴露在所述传感器阵列的表面处的传感器垫且所述隔离结构安置于所述传感器垫与所述多个传感器的其它传感器的传感器垫之间，所述方法包含使所述传感器垫和所述隔离结构暴露于包括有机硅化合物，优选聚二甲基硅氧烷(PDMS)和第一非水性载体的非水性有机硅溶液；将包括有机酸，优选十二烷基苯磺酸(DBSA)，以及第二非水性载体的酸溶液施加到所述传感器垫；以及从所述传感器垫和所述隔离结构冲洗所述酸溶液。

J.鲍尔 P.瓦戈纳 S.帕克

生命技术公司

美国加利福尼亚州

一种处理传感器阵列的方法，所述传感器阵列包括多个传感器，优选CHEMFET，以及隔离结构，其中所述多个传感器的一个传感器具有暴露在所述传感器阵列的表面处的传感器垫且所述隔离结构安置于所述传感器垫与所述多个传感器的其它传感器的传感器垫之间，所述方法包含使所述传感器垫和所述隔离结构暴露于包括有机硅化合物，优选聚二甲基硅氧烷(PDMS)和第一非水性载体的非水性有机硅溶液；将包括有机酸，优选十二烷基苯磺酸(DBSA)，以及第二非水性载体的酸溶液施加到所述传感器垫；以及从所述传感器垫和所述隔离结构冲洗所述酸溶液。