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专利摘要

本发明提供表面粗糙的产生得以抑制的金属板、金属板的制造方法、金属板的成型品的制造方法及金属板的成型品。
在表面处满足(a1)、(b1)或(c1)的条件的金属板及其制造方法。
另外,利用了该金属板的金属板成型品的制造方法及金属板的成型品。
(a1)具有从{111}面偏离20°以上并且从{001}面偏离20°以上的晶体取向的晶粒的面积分率为0.25~0.35,并且平均晶体粒径低于16μm。
(b1)具有从{111}面偏离20°以上并且从{001}面偏离20°以上的晶体取向的晶粒的面积分率为0.15~0.30,并且平均晶体粒径为16μm以上。
(c1)假定了宽度方向的平面应变拉伸变形时的泰勒因子的值显示为3.0~3.4的晶粒的面积分率为0.18~0.40。

专利状态

基础信息

专利号
CN201980023914.0
申请日
2019-04-02
公开日
2021-06-29
公开号
CN111936652B
主分类号
/C/C21/ 化学;冶金
标准类别
铁的冶金
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

久保雅宽 中泽嘉明

申请人

日本制铁株式会社

申请人地址

日本东京

专利摘要

本发明提供表面粗糙的产生得以抑制的金属板、金属板的制造方法、金属板的成型品的制造方法及金属板的成型品。
在表面处满足(a1)、(b1)或(c1)的条件的金属板及其制造方法。
另外,利用了该金属板的金属板成型品的制造方法及金属板的成型品。
(a1)具有从{111}面偏离20°以上并且从{001}面偏离20°以上的晶体取向的晶粒的面积分率为0.25~0.35,并且平均晶体粒径低于16μm。
(b1)具有从{111}面偏离20°以上并且从{001}面偏离20°以上的晶体取向的晶粒的面积分率为0.15~0.30,并且平均晶体粒径为16μm以上。
(c1)假定了宽度方向的平面应变拉伸变形时的泰勒因子的值显示为3.0~3.4的晶粒的面积分率为0.18~0.40。

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