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专利摘要

本发明涉及一种高纯砷的除杂方法,其包括如下步骤:S1、石英管预处理;S2、表层砷挥发;S3、破碎、筛分;S4、深度除杂。
本方法利用砷在真空条件下可以升华的特性,提供一种高纯砷除Si、S、Na、Mg、Fe、Zn杂质元素的方法,此方法操作简单、除杂彻底、无污染、效率高、易于规模化生产、生产成本低。
处理后的产品纯度可以达到7.5N以上,Si含量小于10ppb,S、Na、Mg、Fe、Zn含量均小于2ppb,达到MBE源的使用要求。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910382045.2
申请日
2019-05-09
公开日
2021-07-13
公开号
CN110004308B
主分类号
/C/C21/ 化学;冶金
标准类别
铁的冶金
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

刘留 曾小东 郭金伯 朱刘 何志达 陈昭龙

申请人

广东先导先进材料股份有限公司

申请人地址

511517 广东省清远市高新区百嘉工业园27-9B

专利摘要

本发明涉及一种高纯砷的除杂方法,其包括如下步骤:S1、石英管预处理;S2、表层砷挥发;S3、破碎、筛分;S4、深度除杂。
本方法利用砷在真空条件下可以升华的特性,提供一种高纯砷除Si、S、Na、Mg、Fe、Zn杂质元素的方法,此方法操作简单、除杂彻底、无污染、效率高、易于规模化生产、生产成本低。
处理后的产品纯度可以达到7.5N以上,Si含量小于10ppb,S、Na、Mg、Fe、Zn含量均小于2ppb,达到MBE源的使用要求。

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