目录

专利摘要

本发明属于自旋电子学领域,更具体地,涉及一种表面生长有单层石墨烯的单晶铁、其制备和应用。
将表面清洁的铁样品置于含有烃类气体的真空环境中,通过解离吸附的方法,该铁样品从烃类气体中夺取碳元素,在Fe(111)表面上生长出单层石墨烯。
由于石墨烯的存在,单晶Fe(111)可以保持其原有的性能,防止与空气中的氧气发生反应。
由于Fe结构的独特性质,大量随机取向的畴壁被观察到,这样高质量的自旋器件可以简单地通过在铁表面上生长单层石墨烯来制造,在以后的研究中这种器件有望应用于存储领域或者逻辑计算领域。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010055690.6
申请日
2020-01-17
公开日
2021-07-27
公开号
CN111411343B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

洪正敏 李若凡 游龙

申请人

华中科技大学

申请人地址

430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

专利摘要

本发明属于自旋电子学领域,更具体地,涉及一种表面生长有单层石墨烯的单晶铁、其制备和应用。
将表面清洁的铁样品置于含有烃类气体的真空环境中,通过解离吸附的方法,该铁样品从烃类气体中夺取碳元素,在Fe(111)表面上生长出单层石墨烯。
由于石墨烯的存在,单晶Fe(111)可以保持其原有的性能,防止与空气中的氧气发生反应。
由于Fe结构的独特性质,大量随机取向的畴壁被观察到,这样高质量的自旋器件可以简单地通过在铁表面上生长单层石墨烯来制造,在以后的研究中这种器件有望应用于存储领域或者逻辑计算领域。

相似专利技术