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专利摘要

公开了用于沉积的掩模、制造用于沉积的掩模的方法以及制造显示装置的方法,用于沉积的掩模能够通过在第一方向上施加到掩模的相对端的张力而联接到框架,并且包括具有第一厚度的第一肋部以及包括多个图案孔和至少一个蚀刻部的图案部,沉积材料能够传输经过所述多个图案孔,所述至少一个蚀刻部具有小于第一厚度的第二厚度并且连接在多个图案孔中的一部分之间。

专利状态

基础信息

专利号
CN201711170669.5
申请日
2017-11-22
公开日
2018-06-01
公开号
CN108103437A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

金桢国 文敏浩 文英慜

申请人

三星显示有限公司

申请人地址

韩国京畿道

专利摘要

公开了用于沉积的掩模、制造用于沉积的掩模的方法以及制造显示装置的方法,用于沉积的掩模能够通过在第一方向上施加到掩模的相对端的张力而联接到框架,并且包括具有第一厚度的第一肋部以及包括多个图案孔和至少一个蚀刻部的图案部,沉积材料能够传输经过所述多个图案孔,所述至少一个蚀刻部具有小于第一厚度的第二厚度并且连接在多个图案孔中的一部分之间。

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