本发明提供了一种基于离位技术生长REBCO超导膜的连续装置，所述卷对卷多道往复镀膜单元利用磁控溅射，将靶材的物质沉积到基带上形成金属薄膜，基带先后经过所述真空阱的两个狭缝后进入3个石英管进行热处理，使基带上的金属膜吸氧并转化为具有超导相的超导膜。
本发明克服了技术偏见，使用了磁控溅射离位技术进行沉积镀膜，引入的真空阱作为过渡装置，使镀膜和热处理两个工艺过程变成一个连续的系统，同时又能保证相互之间又不相互干扰，即镀膜和超导相的实现可以发生在两个不同的、连续的过程，能够使用一套粗细不同的石英管实现真空差分的效果，进而在不同的氧分压下对膜层进行热处理，实现膜层从金属膜到超导膜的转变。

常同旭 赵跃 刘士伟 姚林朋 洪智勇

上海超导科技股份有限公司

201207 上海市浦东新区自由贸易试验区芳春路400号1幢3层301-15室

本发明提供了一种基于离位技术生长REBCO超导膜的连续装置，所述卷对卷多道往复镀膜单元利用磁控溅射，将靶材的物质沉积到基带上形成金属薄膜，基带先后经过所述真空阱的两个狭缝后进入3个石英管进行热处理，使基带上的金属膜吸氧并转化为具有超导相的超导膜。
本发明克服了技术偏见，使用了磁控溅射离位技术进行沉积镀膜，引入的真空阱作为过渡装置，使镀膜和热处理两个工艺过程变成一个连续的系统，同时又能保证相互之间又不相互干扰，即镀膜和超导相的实现可以发生在两个不同的、连续的过程，能够使用一套粗细不同的石英管实现真空差分的效果，进而在不同的氧分压下对膜层进行热处理，实现膜层从金属膜到超导膜的转变。