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专利摘要

本发明提供一种遮挡盘检测装置、磁控溅射腔室及遮挡盘检测方法,该遮挡盘检测装置设于磁控溅射腔室内,用于对遮挡盘的位置是否偏移进行检测,包括检测部、多个检测件、驱动器、检测单元,其中,检测部是绝缘的,设于导电的遮挡盘的表面上;驱动器用于驱动多个检测件在检测位置和工艺位置之间移动;多个检测件是导电的,设置为在处于检测位置且遮挡盘的位置未偏移时,同时与检测部接触;检测单元与多个检测件电连接,用于在多个检测件处于检测位置时,检测任意两个检测件之间是否导通,若是,确定遮挡盘发生偏移,若否,确定遮挡盘未偏移。
应用本发明,可以准确判断遮挡盘是否发生偏移。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910917468.X
申请日
2019-09-26
公开日
2021-07-13
公开号
CN110527968B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

魏延宝

申请人

北京北方华创微电子装备有限公司

申请人地址

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

专利摘要

本发明提供一种遮挡盘检测装置、磁控溅射腔室及遮挡盘检测方法,该遮挡盘检测装置设于磁控溅射腔室内,用于对遮挡盘的位置是否偏移进行检测,包括检测部、多个检测件、驱动器、检测单元,其中,检测部是绝缘的,设于导电的遮挡盘的表面上;驱动器用于驱动多个检测件在检测位置和工艺位置之间移动;多个检测件是导电的,设置为在处于检测位置且遮挡盘的位置未偏移时,同时与检测部接触;检测单元与多个检测件电连接,用于在多个检测件处于检测位置时,检测任意两个检测件之间是否导通,若是,确定遮挡盘发生偏移,若否,确定遮挡盘未偏移。
应用本发明,可以准确判断遮挡盘是否发生偏移。

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