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专利摘要

本发明提供一种蚀刻设备,包括载物台与两个以上喷淋单元,载物台用以放置基板;喷淋单元设于所述载物台上方,用以向所述基板喷淋刻蚀液;每一喷淋单元包括第一喷嘴与第二喷嘴,第一喷嘴朝向所述基板方向,第一喷嘴中心轴线与竖直方向形成第一夹角;以及第二喷嘴朝向所述基板方向,第二喷嘴中心轴线与竖直方向形成第二夹角。
通过调节喷淋单元中的每一喷嘴的方向,使得金属层侧壁下部的腐蚀程度更深,从而调节面板成品中taper角的角度,使得taper角的角度不会过小,进而提高面板的良率。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910270599.3
申请日
2019-04-04
公开日
2021-03-23
公开号
CN110106504B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

刘三泓

申请人

TCL华星光电技术有限公司

申请人地址

518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

专利摘要

本发明提供一种蚀刻设备,包括载物台与两个以上喷淋单元,载物台用以放置基板;喷淋单元设于所述载物台上方,用以向所述基板喷淋刻蚀液;每一喷淋单元包括第一喷嘴与第二喷嘴,第一喷嘴朝向所述基板方向,第一喷嘴中心轴线与竖直方向形成第一夹角;以及第二喷嘴朝向所述基板方向,第二喷嘴中心轴线与竖直方向形成第二夹角。
通过调节喷淋单元中的每一喷嘴的方向,使得金属层侧壁下部的腐蚀程度更深,从而调节面板成品中taper角的角度,使得taper角的角度不会过小,进而提高面板的良率。

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