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专利摘要

本发明涉及抛光技术领域,尤其是涉及一种等离子纳米抛光装置及半封闭内孔金属工件自动抛光设备;包括抛光导电槽,抛光导电槽内设有储液腔,储液腔内部设有加热机构,储液腔的底部间隔布设有多个与储液腔底部垂直连接的导电柱,各导电柱的内部设有引流腔,各引流腔向上贯通导电柱的顶部,抛光导电槽的底部设有与各引流腔一一对应的引出孔,引出孔通过回流管路与等离子液存储箱的进液口连通,等离子液存储箱的出液口与抛光导电槽的进液口连通,等离子液存储箱与抛光导电槽间的回流管路上还连通有液泵;还包括抛光工件导电夹具,抛光工件导电夹具与电源正极电连接,抛光导电槽与电源负极电连接。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911376154.X
申请日
2019-12-27
公开日
2021-05-28
公开号
CN111152073B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

陶立群

申请人

于成泽

申请人地址

300131 天津市红桥区桃花堤大道桃花园南里43门509号

专利摘要

本发明涉及抛光技术领域,尤其是涉及一种等离子纳米抛光装置及半封闭内孔金属工件自动抛光设备;包括抛光导电槽,抛光导电槽内设有储液腔,储液腔内部设有加热机构,储液腔的底部间隔布设有多个与储液腔底部垂直连接的导电柱,各导电柱的内部设有引流腔,各引流腔向上贯通导电柱的顶部,抛光导电槽的底部设有与各引流腔一一对应的引出孔,引出孔通过回流管路与等离子液存储箱的进液口连通,等离子液存储箱的出液口与抛光导电槽的进液口连通,等离子液存储箱与抛光导电槽间的回流管路上还连通有液泵;还包括抛光工件导电夹具,抛光工件导电夹具与电源正极电连接,抛光导电槽与电源负极电连接。

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