本发明提供一种银薄膜蚀刻液组合物及利用该银薄膜蚀刻液组合物的蚀刻方法和金属图案的形成方法，上述银薄膜蚀刻液组合物的特征在于，相对于组合物总重量，包含(A)无机酸1～15重量％、(B)有机酸30～73重量％、(C)无机盐0.5～15重量％和(D)余量的水。
银薄膜蚀刻液组合物用于由银(Ag)或银合金构成的单层膜及由上述单层膜和透明导电膜构成的多层膜的蚀刻，提供不发生残渣和银再吸附问题的效果。

南基龙 尹暎晋 李原昊 金童基 朴英哲 张晌勋

东友精细化工有限公司

韩国全罗北道

本发明提供一种银薄膜蚀刻液组合物及利用该银薄膜蚀刻液组合物的蚀刻方法和金属图案的形成方法，上述银薄膜蚀刻液组合物的特征在于，相对于组合物总重量，包含(A)无机酸1～15重量％、(B)有机酸30～73重量％、(C)无机盐0.5～15重量％和(D)余量的水。
银薄膜蚀刻液组合物用于由银(Ag)或银合金构成的单层膜及由上述单层膜和透明导电膜构成的多层膜的蚀刻，提供不发生残渣和银再吸附问题的效果。