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专利摘要

本发明提供了一种氨基甲酸酯类化合物在镁合金蚀刻添加剂中的应用,其在镁合金蚀刻添加剂中起到均匀缓蚀,减小侧蚀的作用;所述氨基甲酸酯类化合物主要包括氨基甲酸酯、1,6‑六亚甲基二氨基甲酸酯、异氟尔酮二氨基甲酸酯、苯氨基甲酸酯、甲苯二氨基甲酸酯、1,2‑环己二氨基甲酸酯、1,4‑环己二氨基甲酸酯和4,4’‑二苯甲烷二氨基甲酸酯。
所述氨基甲酸酯类化合物配合相应的表面活性剂、消泡剂、溶剂和去离子水等一起构成添加剂用于镁合金蚀刻,具有用量小,蚀刻工艺窗口宽等特点,而且同时含有氨基和酯基,大大简化了添加剂的组成,延长了添加剂的使用寿命,具有明显的社会经济效益。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910091500.3
申请日
2019-01-30
公开日
2021-02-09
公开号
CN109536963B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

毛佳骏 谭学峰 周建明

申请人

上海镁印科技有限公司

申请人地址

201100 上海市闵行区金都路4299号6幢1楼J6室

专利摘要

本发明提供了一种氨基甲酸酯类化合物在镁合金蚀刻添加剂中的应用,其在镁合金蚀刻添加剂中起到均匀缓蚀,减小侧蚀的作用;所述氨基甲酸酯类化合物主要包括氨基甲酸酯、1,6‑六亚甲基二氨基甲酸酯、异氟尔酮二氨基甲酸酯、苯氨基甲酸酯、甲苯二氨基甲酸酯、1,2‑环己二氨基甲酸酯、1,4‑环己二氨基甲酸酯和4,4’‑二苯甲烷二氨基甲酸酯。
所述氨基甲酸酯类化合物配合相应的表面活性剂、消泡剂、溶剂和去离子水等一起构成添加剂用于镁合金蚀刻,具有用量小,蚀刻工艺窗口宽等特点,而且同时含有氨基和酯基,大大简化了添加剂的组成,延长了添加剂的使用寿命,具有明显的社会经济效益。

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