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专利摘要

本发明公开了一种硅片酸抛光用添加剂,其各组分的含量为:0.5~1.5质量份聚天门冬氨酸,2.0~4.5质量份醋酸,1.0~2.0质量份水苏糖,2.0~3.5质量份山梨醇,以及100质量份水。
在硅片酸抛光的抛光液中添加本发明的添加剂,能使酸抛光后硅片背面的绒面变为塔基状。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010237584.X
申请日
2020-03-30
公开日
2021-03-26
公开号
CN111254498B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

于胤 邓舜 陈盼盼 章圆圆

申请人

常州时创能源股份有限公司

申请人地址

213300 江苏省常州市溧阳市溧城镇吴潭渡路8号

专利摘要

本发明公开了一种硅片酸抛光用添加剂,其各组分的含量为:0.5~1.5质量份聚天门冬氨酸,2.0~4.5质量份醋酸,1.0~2.0质量份水苏糖,2.0~3.5质量份山梨醇,以及100质量份水。
在硅片酸抛光的抛光液中添加本发明的添加剂,能使酸抛光后硅片背面的绒面变为塔基状。

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