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专利摘要

本发明属于离子交换膜技术领域,具体涉及一种具有粗糙涂层的全氟羧酸离子交换膜及其制备方法。
本发明所述的具有粗糙涂层的全氟羧酸离子交换膜,由全氟羧酸聚合物层和功能表面涂层组成,其中功能表面涂层位于全氟羧酸聚合物层的上下表面;所述全氟羧酸聚合物层的厚度为50‑250μm,功能表面涂层的厚度为10nm‑30μm;所述功能表面涂层是由全氟离子聚合物与金属氧化物的混合物构成的多孔粗糙结构。
本发明的具有粗糙涂层的全氟羧酸离子交换膜,在新型高电流密度条件下的零极距电解槽中,能有效降低槽电压,减少电解能耗,降低生产成本;本发明还提供其制备方法。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911405628.9
申请日
2019-12-31
公开日
2020-05-05
公开号
CN111101152A
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

张永明 雷建龙 冯威 张恒 宗少杰 赵宽 张振 张志浩

申请人

山东东岳未来氢能材料有限公司

申请人地址

256401 山东省淄博市桓台县唐山镇东岳氟硅材料产业园区

专利摘要

本发明属于离子交换膜技术领域,具体涉及一种具有粗糙涂层的全氟羧酸离子交换膜及其制备方法。
本发明所述的具有粗糙涂层的全氟羧酸离子交换膜,由全氟羧酸聚合物层和功能表面涂层组成,其中功能表面涂层位于全氟羧酸聚合物层的上下表面;所述全氟羧酸聚合物层的厚度为50‑250μm,功能表面涂层的厚度为10nm‑30μm;所述功能表面涂层是由全氟离子聚合物与金属氧化物的混合物构成的多孔粗糙结构。
本发明的具有粗糙涂层的全氟羧酸离子交换膜,在新型高电流密度条件下的零极距电解槽中,能有效降低槽电压,减少电解能耗,降低生产成本;本发明还提供其制备方法。

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