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专利摘要

本发明公开了一种高浓度自由基电极的制备方法,该方法将球形中空钛基体进行粗化处理,对粗化后的钛基体进行化学镀,在钛基体表面形成锡锑氧化物底层,然后将化学镀后的钛基体置于碱性电镀液中进行碱性电镀,在钛基体底层上生成α‑PbO2层,然后经酸性复合电镀,在α‑PbO2层上生成稀土金属和β‑PbO2活性层;采用以二氧化碳为激光源的激光打孔器,利用激光复制打孔法在球形中空钛基体表面加工出通孔,制得球形中空高浓度自由基电极;该方法制得的电极比表面积大,孔隙率高,自由基产生速率快且浓度高,将电极应用在有机污染物处理中,处理流程短、能耗低,可快速有效将污染物降解为小分子物质及无害的CO2和H2O。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910769028.4
申请日
2019-08-20
公开日
2019-10-22
公开号
CN110357224A
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

瞿广飞 李恒 李军燕 李志顺成 杨聪庆

申请人

昆明理工大学

申请人地址

650093 云南省昆明市五华区学府路253号

专利摘要

本发明公开了一种高浓度自由基电极的制备方法,该方法将球形中空钛基体进行粗化处理,对粗化后的钛基体进行化学镀,在钛基体表面形成锡锑氧化物底层,然后将化学镀后的钛基体置于碱性电镀液中进行碱性电镀,在钛基体底层上生成α‑PbO2层,然后经酸性复合电镀,在α‑PbO2层上生成稀土金属和β‑PbO2活性层;采用以二氧化碳为激光源的激光打孔器,利用激光复制打孔法在球形中空钛基体表面加工出通孔,制得球形中空高浓度自由基电极;该方法制得的电极比表面积大,孔隙率高,自由基产生速率快且浓度高,将电极应用在有机污染物处理中,处理流程短、能耗低,可快速有效将污染物降解为小分子物质及无害的CO2和H2O。

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