一种多孔纳米花状Ni 下载此专利PDF版本

CN201910826262.6 多孔 纳米

目录

专利摘要

本发明提供一种多孔纳米花状Ni

专利状态

  1. 申请日
  2. 公开日
  3. 有效专利

基础信息

专利号
CN201910826262.6
申请日
2019-09-03
公开日
2021-05-28
公开号
CN110562942B
主分类号
/C/C25/ 化学；冶金
标准类别
电解或电泳工艺；其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

陈保卫 高文君 杨阳 郭桦 杜庶铭 徐冬 孟瑞红 孙振新

申请人

国电新能源技术研究院有限公司

申请人地址

102209 北京市昌平区北七家镇未来科技城北二街

专利摘要

本发明提供一种多孔纳米花状Ni

相似专利技术

  • 含多孔型导电板的氯碱膜电解槽
  • 一种氮自掺杂多孔碳催化剂及其制备方法与应用
  • 多孔氮掺杂石墨烯复合磷化钴纳米片及其制备方法与应用
  • 富硫空位硫化铋纳米线及其制备方法和应用
  • 用于电化学制备过氧化氢的纳米催化剂及其制法和应用
  • 一种纳米多孔非晶态电催化电极及其制备方法和应用
  • 一种Ti-Fe基多孔析氢阴极材料、制备方法及应用
  • 一种V-Ti-Ni基多孔析氢阴极材料、制备方法及应用
  • 一种镍-氧化镍超薄纳米片材料及其电沉积制备方法和应
  • 锌离子诱导制备多枝状铂基纳米材料的方法
    • 版权所有 侵权必究
    • 本服务由中国及多国专利审查信息查询提供
    • 专利网-专利查询-专利检索
    • 鲁ICP备15018056号-1
    • XML