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专利摘要

本发明公开了一种模拟单层单晶六角氮化硼薄膜的制备方法,属于二维材料制备技术领域。
包括以下步骤:S1、构建基底材料模型;S2、获得不同边界的hBN纳米带;沿hBN纳米片的扶手椅型BN(BNac)、扶手椅型NB(NBac)、富硼“Z”字型(Bzz)及富氮“Z”字型(Nzz)四种边界剪切,获得不同边界hBN纳米带;S3、构建hBN纳米片或氢钝化hBN纳米片模型;S4、确定最佳的可融合成单晶hBN纳米片的模型;S5、确定氢压范围。
本发明基于第一性原理模拟圆形hBN晶粒融合形成单层hBN单晶薄膜的生长过程,确定最适合融合的hBN晶粒边界,明确氢压在制备过程中的作用,对制备出大面积、高质量的单层单晶六角氮化硼薄膜具有重要的科学意义。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011120600.3
申请日
2020-10-19
公开日
2021-01-12
公开号
CN112210832A
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

丁利苹 田董昀昊 邵鹏 唐妍 张方辉 雷涛 赵梓利

申请人

陕西科技大学

申请人地址

710021 陕西省西安市未央区大学园区陕西科技大学

专利摘要

本发明公开了一种模拟单层单晶六角氮化硼薄膜的制备方法,属于二维材料制备技术领域。
包括以下步骤:S1、构建基底材料模型;S2、获得不同边界的hBN纳米带;沿hBN纳米片的扶手椅型BN(BNac)、扶手椅型NB(NBac)、富硼“Z”字型(Bzz)及富氮“Z”字型(Nzz)四种边界剪切,获得不同边界hBN纳米带;S3、构建hBN纳米片或氢钝化hBN纳米片模型;S4、确定最佳的可融合成单晶hBN纳米片的模型;S5、确定氢压范围。
本发明基于第一性原理模拟圆形hBN晶粒融合形成单层hBN单晶薄膜的生长过程,确定最适合融合的hBN晶粒边界,明确氢压在制备过程中的作用,对制备出大面积、高质量的单层单晶六角氮化硼薄膜具有重要的科学意义。

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