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专利摘要

本发明属于二维材料领域,公开了一种熔融盐辅助化学气相沉积生长多层二硒化钨单晶的方法,该方法是利用预先设定的温度条件,在小反应室处于预先设定的温度条件下时,卤化物能够熔融与钨源材料反应生成熔点低于钨源材料的中间产物,载气气流则能够携带硒源材料产生的气态硒元素与中间产物产生的气态钨元素在衬底上基于化学气相沉积的原理生长多层二硒化钨单晶。
本发明通过对制备方法关键的反应参与物和反应腔室进行改进,使用卤化物与钨源材料混合参与反应,利用卤化物熔融盐与钨源材料反应生成熔点低于钨源材料的中间产物,能够有效控制化学气相沉积生长多层二硒化钨单晶,可控性好且能够制得较大尺寸的多层二硒化钨单晶。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010181843.1
申请日
2020-03-16
公开日
2021-06-11
公开号
CN111304738B
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

吴燕庆 宋健 李学飞

申请人

华中科技大学

申请人地址

430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

专利摘要

本发明属于二维材料领域,公开了一种熔融盐辅助化学气相沉积生长多层二硒化钨单晶的方法,该方法是利用预先设定的温度条件,在小反应室处于预先设定的温度条件下时,卤化物能够熔融与钨源材料反应生成熔点低于钨源材料的中间产物,载气气流则能够携带硒源材料产生的气态硒元素与中间产物产生的气态钨元素在衬底上基于化学气相沉积的原理生长多层二硒化钨单晶。
本发明通过对制备方法关键的反应参与物和反应腔室进行改进,使用卤化物与钨源材料混合参与反应,利用卤化物熔融盐与钨源材料反应生成熔点低于钨源材料的中间产物,能够有效控制化学气相沉积生长多层二硒化钨单晶,可控性好且能够制得较大尺寸的多层二硒化钨单晶。

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