公开了一种与后处理模块一起使用的助留系统。
助留系统可以包括设置在至少一个催化剂基底的至少一个表面上的第一支撑垫。
助留系统还可以包括具有设置在第一支撑垫上的波纹部分的至少一个支撑板。
助留系统可以进一步包括设置在波纹部分上的第二支撑垫。

K·E·切诺韦思 D·A·埃克斯

卡特彼勒公司

美国伊利诺伊州

公开了一种与后处理模块一起使用的助留系统。
助留系统可以包括设置在至少一个催化剂基底的至少一个表面上的第一支撑垫。
助留系统还可以包括具有设置在第一支撑垫上的波纹部分的至少一个支撑板。
助留系统可以进一步包括设置在波纹部分上的第二支撑垫。