一种组件，其包括基底、在该基底上的膜和在该膜上的涂层。
该膜包括有机溶剂可透过的材料，和该涂层包括与该膜有反应性的材料。
可选择地，该组件可以包括基底，其包括纹理化区域，和在该纹理化区域上的涂层。
该涂层模拟了该纹理化区域的纹理。
在一种可选择的实施方案中，一种层合体包括膜，该膜包括有机溶剂可透过的材料，在该膜上的涂层，和在该膜第二表面上的粘结剂。
该涂层包括与该膜有反应性的材料。
在另一实施方案中，一种在基底上降低拖曳的方法，其包括将膜施用到基底上，和将涂层施用到该膜上。
该膜包括有机溶剂可透过的材料，和该涂层包括与该膜有反应性的材料。

T·M·罗普 M·P·鲍曼 E·F·拉克维兹

PRC-迪索托国际公司

美国加利福尼亚

一种组件，其包括基底、在该基底上的膜和在该膜上的涂层。
该膜包括有机溶剂可透过的材料，和该涂层包括与该膜有反应性的材料。
可选择地，该组件可以包括基底，其包括纹理化区域，和在该纹理化区域上的涂层。
该涂层模拟了该纹理化区域的纹理。
在一种可选择的实施方案中，一种层合体包括膜，该膜包括有机溶剂可透过的材料，在该膜上的涂层，和在该膜第二表面上的粘结剂。
该涂层包括与该膜有反应性的材料。
在另一实施方案中，一种在基底上降低拖曳的方法，其包括将膜施用到基底上，和将涂层施用到该膜上。
该膜包括有机溶剂可透过的材料，和该涂层包括与该膜有反应性的材料。