本申请公开了一种单向阀和等离子体合成射流激励器。
其中，单向阀包括阀体和弹性膜片；阀体设有第一气道、第二气道和阀腔；阀体在阀腔内设有防冲击结构，第二气道通过防冲击结构与阀腔连通，防冲击结构在第二气道气压大于第一气道气压时防止气体从第二气道直接冲击弹性膜片；阀体在阀腔内还设有支撑结构，支撑结构用于保证所述弹性膜片在第一气道气压大于第二气道气压时开启第一气道与阀腔的连通，并在第一气道气压小于或等于第二气道气压时封闭第一气道与阀腔的连通。
等离子体合成射流激励器则附带有如上所述的单向阀用以补气。
采用上述技术方案，能够增加等离子体合成射流激励器吸气复原阶段的吸气量，同时又不会在喷射射流时漏气。

刘汝兵 李飞 韦文韬 陈国涛 林麒

厦门大学

361000 福建省厦门市思明南路422号

本申请公开了一种单向阀和等离子体合成射流激励器。
其中，单向阀包括阀体和弹性膜片；阀体设有第一气道、第二气道和阀腔；阀体在阀腔内设有防冲击结构，第二气道通过防冲击结构与阀腔连通，防冲击结构在第二气道气压大于第一气道气压时防止气体从第二气道直接冲击弹性膜片；阀体在阀腔内还设有支撑结构，支撑结构用于保证所述弹性膜片在第一气道气压大于第二气道气压时开启第一气道与阀腔的连通，并在第一气道气压小于或等于第二气道气压时封闭第一气道与阀腔的连通。
等离子体合成射流激励器则附带有如上所述的单向阀用以补气。
采用上述技术方案，能够增加等离子体合成射流激励器吸气复原阶段的吸气量，同时又不会在喷射射流时漏气。