目录

专利摘要

本发明公开了一种光斑压缩结构和光源装置,该光斑压缩结构包括:用于与至少两个光源相对的反射条;承载反射条,且能够调节反射条的反射角度的调节机构;其中,调节机构包括:支架,设于支架的调节组件;反射条承载于调节组件,且调节组件与反射条一一对应。
本发明公开的光斑压缩结构,通过设置调节机构,利用该调节机构来调节反射条的反射角度,且调节组件与反射条一一对应,则能够调节每一个反射条的反射角度,实现了在该光斑压缩结构安装过程中调节每一个反射条的反射角度,从而降低了对机械构件尺寸精度的要求,提高了合格率,减少了不合格产品,进而降低了光斑压缩成本。

专利状态

基础信息

专利号
CN201610082016.0
申请日
2016-02-05
公开日
2017-08-15
公开号
CN107044620A
主分类号
/F/F21/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
照明
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

杨义红 王则钦 李屹

申请人

深圳市绎立锐光科技开发有限公司

申请人地址

518055 广东省深圳市南山区西丽茶光路1089号深圳市集成电路设计应用产业园4楼

专利摘要

本发明公开了一种光斑压缩结构和光源装置,该光斑压缩结构包括:用于与至少两个光源相对的反射条;承载反射条,且能够调节反射条的反射角度的调节机构;其中,调节机构包括:支架,设于支架的调节组件;反射条承载于调节组件,且调节组件与反射条一一对应。
本发明公开的光斑压缩结构,通过设置调节机构,利用该调节机构来调节反射条的反射角度,且调节组件与反射条一一对应,则能够调节每一个反射条的反射角度,实现了在该光斑压缩结构安装过程中调节每一个反射条的反射角度,从而降低了对机械构件尺寸精度的要求,提高了合格率,减少了不合格产品,进而降低了光斑压缩成本。

相似专利技术