本发明涉及硅片处理领域，公开了一种硅片清洗系统，包括依次连接的上料机构和清洗机构，上料机构包括至少一条平料传送带，平料传送带终端设有立片导槽，立片导槽终端竖直向下，立片导槽下方设有竖料传送带，竖料传送带沿传送方向设有至少一条立片传送槽，立片传送槽槽宽与硅片厚度相匹配，立片传送槽与立片导槽终端平行且一一对应，清洗机构包括清洗池，清洗池上方通过升降机构连有清洗框，以使清洗框能够进出清洗池，清洗框的入口与竖料传送带终端匹配，清洗框内平行设有若干插片槽，插片槽与立片传送槽平行且一一对应。
其能够自动上料，使硅片平行且间隔地插入清洗框，有效提升清洗效率，降低人工成本，避免硅片表面污染。

李健儿 冯永 胡仲波 敬春云 宋勇 王一超 李慕轩

四川上特科技有限公司

629200 四川省遂宁市射洪县河东大道88号

本发明涉及硅片处理领域，公开了一种硅片清洗系统，包括依次连接的上料机构和清洗机构，上料机构包括至少一条平料传送带，平料传送带终端设有立片导槽，立片导槽终端竖直向下，立片导槽下方设有竖料传送带，竖料传送带沿传送方向设有至少一条立片传送槽，立片传送槽槽宽与硅片厚度相匹配，立片传送槽与立片导槽终端平行且一一对应，清洗机构包括清洗池，清洗池上方通过升降机构连有清洗框，以使清洗框能够进出清洗池，清洗框的入口与竖料传送带终端匹配，清洗框内平行设有若干插片槽，插片槽与立片传送槽平行且一一对应。
其能够自动上料，使硅片平行且间隔地插入清洗框，有效提升清洗效率，降低人工成本，避免硅片表面污染。