1.本发明涉及一种用于沉积装置的台结构和具有该台结构的沉积装置，更具体地，涉及一种用于固定掩模组件的可移动台，以及一种通过使用上述掩模组件在衬底上沉积有机物来形成图案结构的有机物沉积装置。


背景技术：

2.近来，有机发光显示装置由于其宽视角、优异的对比度和快速的响应速度等优点而被广泛用作平板显示装置。
3.常规的有机发光显示装置由彼此相对的阳电极、阴电极和布置在阳电极和阴电极之间的发光层构成。在这种情况下，上述发光层通过在形成有电极的衬底的表面上执行各种沉积工艺而形成。
4.例如，将用于形成构成发光层的图案结构的精细金属掩模(fmm)紧贴至形成有电极的衬底的表面上，并且将有机物喷射到上述精细金属掩模的表面上，从而形成构成中间层的图案结构。
5.然而，随着近来对高像素的大型显示装置的需求的增加，图案间隔减小的同时，精细金属掩模的尺寸增加，因此，出现了即使掩模组件自身的负荷或掩模组件与沉积台之间的微小异物也会使衬底与掩模组件之间的对齐变形的问题。
6.具体地，在掩模框架和固定掩模框架的沉积台之间产生的异物会导致掩模框架的变形，从而改变固定在掩模框架上的掩模图案的形状，由此导致沉积在衬底上的图案结构的缺陷。


技术实现要素：

7.解决的技术问题
8.本发明的一个目的在于提供一种用于沉积装置的台，其能够通过调节上表面的平整度来保持结合到该上表面上的掩模组件的平整度恒定。
9.本发明的另一目的在于提供一种具有如上所述的台的沉积装置。
10.解决方法
11.为实现上述目的的、根据本发明一实施例的用于沉积装置的台包括：本体，其具有围绕供沉积物穿过的开口的闭环形状，并且具有平坦的上表面；以及位置可变固定部，其具有用于固定将被沉积沉积物的对象物体的固定表面，并且与所述本体结合使得能够相对于所述本体进行相对运动，以沿着所述开口的外周均匀地保持所述对象物体的竖直位置。
12.为实现上述目的的、根据本发明另一实施例的沉积装置包括：腔室，所述腔室的下部具有用于喷射沉积物的喷射器，且所述腔室具有用于真空沉积工艺的沉积空间；基准平板，布置成从所述腔室的底部延伸以围绕所述喷射器，并且在所述腔室内部提供水平基准面；可移动台，具有供所述沉积物穿过的开口，固定在所述基准平板上，并且能够沿垂直于所述水平基准面的竖直方向进行相对运动；以及掩模组件，固定于所述可移动台，并且具有
掩模图案，所述掩模图案贴合至衬底并通过在所述衬底上选择性地沉积所述沉积物而形成电路图案。
13.有益效果
14.通过根据本发明的实施例的可移动台和具有其的沉积装置，在将衬底和/或掩模组件固定到残留有异物的台上时，可以通过台的变形来吸收由异物引起的全部外力，从而可以防止掩模组件变形。因此，即使在被施加由异物引起的外力时，也可以防止掩模组件的水平状态被破坏，从而可以充分地防止衬底的沉积缺陷。
15.此时，台可以通过使用弹性体或磁悬浮结构，根据异物所在的区域局部地自动向下收缩或向下移动相当于异物的厚度的距离，从而使固定在台上的掩模组件的竖直位置保持一致。即，通过充分地抑制掩模组件由于掩模组件与台之间的异物而变形，可以防止由于掩模组件的平整度缺陷而导致的衬底的沉积缺陷。
16.然而，本发明的效果不限于上述效果，而是可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下进行各种扩展。
附图说明
17.图1是示出根据本发明一实施例的用于沉积装置的台结构的立体图。
18.图2是图1所示的台结构的分解立体图。
19.图3是示出布置在由于图1中所示的台结构300和对象物体m之间的异物而导致的台结构300的变形的立体图。
20.图4a是示出根据本发明另一实施例的台结构的平面图。
21.图4b是将图4a所示的台结构沿i-i'方向截取的截面图。
22.图5a是示出根据本发明又一实施例的台结构的平面图。
23.图5b是将图5a所示的台结构沿ii-ii'方向截取的截面图。
24.图6a是示出根据本发明又一实施例的台结构的平面图。
25.图6b是放大图6a的部分a的放大立体图。
26.图7a是示出根据本发明又一实施例的台结构的平面图。
27.图7b是放大图7a的部分a的放大立体图。
28.图8是示出根据本发明实施例的具有台结构的沉积装置的结构图。
29.附图标记的说明
30.100：腔室
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100：喷射器
31.200：基准平板
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300：可移动台
32.400：掩模组件
33.500：水平调节器
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600：衬底固定装置
34.700：运载体
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800：运载体传送器
具体实施方式
35.以下，参照附图详细说明根据本发明的优选实施例的沉积装置，但本发明并不限于以下的实施例，且在不脱离本发明的技术思想的范围内，本领域技术人员可以以各种不同的形态实现本发明。
36.在附图中，为了本发明的清楚性，相比于实际情况夸大示出了衬底、层(膜)、区域、图案或结构的尺寸。在本说明书中，对于表征形状、几何条件和物理特性及其程度的术语(例如，“平行”、“正交”、“相同”、“等同”等)或者长度或角度以及物理特性的值等，应解释为包括能够期望相同功能的程度的范围，而不受限于术语的严格意义。
37.此外，当各个层(膜)、区域、电极、图案或结构被称为形成在衬底、各个层(膜)、区域、电极、结构或图案“上”、“上方”或“下方”时，其意味着各个层(膜)、区域、电极、图案或结构直接形成在衬底、各个层(膜)、区域、电极、结构或图案上或位于其下方，或者衬底上可以形成有其他层(膜)、其他区域、其他电极、其他图案或其他结构。此外，当物质、层(膜)、区域、电极、图案或结构被称为“第一”、“第二”、“第三”和/或“初步”时，其并不旨在限制这些构件，而仅仅是用于各个物质、层(膜)、区域、电极、图案或结构。因此，“第一”、“第二”、“第三”和/或“初步”各自可以针对各个层(膜)、区域、电极、图案或结构选择性地或交换地使用。
38.图1是示出根据本发明一实施例的用于沉积装置的台结构的立体图，且图2是图1所示的台结构的分解立体图。
39.参照图1和图2，根据本发明一实施例的用于沉积装置的台结构300包括本体310和位置可变固定部320，其中，本体310具有围绕供沉积物d通过的开口o的闭环形状，并具有平坦的上表面311，并且位置可变固定部320具有固定表面321，该固定表面321用于固定将沉积沉积物d的对象物体m，且位置可变固定部320结合到本体310，以能够相对于本体310进行相对运动，并沿着开口o的外周均匀地保持对象物体m的竖直位置。
40.在本实施例中，台结构300所公开的是通过在用于制造有机发光显示装置的衬底上沉积有机物而形成合适的图案结构的有机物沉积装置的台。然而，显而易见的是，只要具有通过台固定沉积对象衬底并从衬底的下方喷射沉积物进行沉积的结构，即可应用本发明的各种实施例中所公开的台结构。
41.例如，只要本体310具有平坦的上表面311并具有围绕开口o的闭环形状，则其可以由各种构件形成。
42.在本实施例中，用于支承本体310的基座构件(未示出)设置在执行沉积工艺的腔室的下部，并且本体310安放并固定在基座构件(未示出)上。然而，本体310不限于此，而是可以以各种方式布置在腔室内部。例如，本体310也可以直接布置在腔室的底表面，并且形成为向上延伸的块状本体。
43.由于本体310构成固定对象物体m的台的一部分，因此，如下所述，本体310可以由足以能够吸收由位于对象物体m与台结构300之间的异物f(参照图3)导致的台结构300的变形的弹性体形成。与此不同，由于起到支承位于上表面311上的位置可变固定部320的支承台的作用，因此也可以由具有足够强度的诸如铁板的钢材构成。
44.只要本体310可以限定能够供沉积物d流动的开口o并且具有平坦的上表面311以支承位置可变固定部320，则可以提供为各种形状。
45.在本实施例中，本体310提供为围绕开口o并具有预定宽度w1的矩形环形状，并且上表面311构成为平坦状，以支承并固定位置可变固定部320。
46.本体310的上表面311提供为与固定到台结构300的对象物体m基本平行对齐的平坦表面。由此，固定在上表面311上的位置可变固定部320也可以与对象物体m平行地固定。
47.位置可变固定部320提供为固定到本体310的上表面311并具有与本体310相对应的轮廓的立体结构。由此，位置可变固定部320也提供为具有围绕开口o的闭环形状并具有平坦的上表面的矩形环形状。此时，对象物体m固定在所述位置可变固定部320的上表面上。
48.由于上表面311定位成平行于对象物体m，因此固定表面321也与对象物体m平行地布置，从而使对象物体m与台结构300平行地固定。
49.对象物体m紧贴至沉积对象衬底并具有用于形成图案结构的掩模图案，以将供应到对象物体m的沉积物d选择性地沉积在衬底的表面上。由此，在衬底的表面上形成与掩模图案相对应的图案结构。
50.因此，当将衬底充分平行地紧贴至对象物体m时，台结构300和衬底也可以平行地对齐，从而可以在衬底的表面上沉积精确的图案结构。
51.尤其是，位置可变固定部320与本体310结合成能够相对于本体310进行相对运动，从而可以沿开口o的外周均匀地保持对象物体m的竖直位置。
52.例如，相对于沿垂直于上表面311的第三方向iii施加的外力，位置可变固定部320比对象物体m的变形程度相对更大，从而能够吸收由对象物体m和位置可变固定部320之间的异物导致的变形中的大部分。
53.因此，当通过位于位置可变固定部320和对象物体m之间的异物而被施加相同的外力时，可以只有位置可变固定部320沿第三方向iii变形，而不会使对象物体m实质性地变形。
54.图3是示出由于布置在图1中所示的台结构300和对象物体m之间的异物f而导致的台结构300的变形的立体图。
55.如图3所示，当将对象物体m固定到具有异物f的固定表面321上时，由异物f产生的外力大部分被位置可变固定部320的变形部分(未示出)吸收，从而抑制由外力引起的对象物体m的变形。因此，即使当在台结构300与对象物体m之间具有异物f时，也可以防止对象物体m的变形，从而恒定地保持对象物体m沿第三方向iii的位置。
56.在本实施例中，对象物体m可以由构成用于制造有机发光显示装置的有机物沉积装置的掩模组件的金属框架构成，并且位置可变固定部320可以由相对于金属框架具有足够高的硬度的弹性体构成。
57.例如，位置可变固定部320设置为具有对象物体m的硬度的约30％至50％的硬度，并且可以由聚硅氧烷碳酸酯(psc：poly siloxane carbonate)、硅树脂(silicone)、尿烷(urethane)及橡胶(rubber)中的任一种构成。
58.尤其是，本体310和位置可变固定部320也可以由单个弹性体构成，并提供为单个台结构300。因此，台结构300也可以提供为具有对应于本体310和位置可变固定部320的厚度的单个弹性环。
59.与此不同地，位置可变固定部320也可以构成为布置在本体310上的各种位置可变结构。因此，台结构300也可以以各种方式进行修改。
60.图4a是示出根据本发明另一实施例的台结构的平面图，且图4b是将图4a所示的台结构沿i-i'方向截取的截面图。除了第一变型位置可变固定部330布置在设置于本体310的沟槽t的内部之外，根据本发明另一实施例的台结构301具有与图1中所示的台结构300基本相同的结构。因此，在图4a和图4b中，针对与图1至图3相同的构成要素，使用了相同的附图
标记，并且将省略进一步详细的描述。
61.参照图4a和图4b，根据本发明的另一实施例的台结构301具有沟槽t，且第一变型位置可变固定部330布置在沟槽t中，其中沟槽t从上表面311凹入并延伸以围绕开口o。
62.沟槽t设置为具有小于本体310的宽度w1的沟槽宽度w
t
和深度d
t
，并且提供为围绕开口o的连续的沟槽线。
63.尤其是，由于沿沟槽t定位用于支承对象物体m的固定平板334，因此可以在邻近开口o的本体310的上表面311上形成沟槽t，从而提高与对象物体m的接触的便利性。
64.第一变型位置可变固定部330包括布置成从沟槽t的底部突出的弹性支承部332和与弹性支承部332的上端接触并覆盖沟槽t的上部的固定平板334。
65.弹性支承部332由弹性比对象物体m的弹性充分大的物质构成，且固定平板334由刚性等同于或大于对象物体m的刚性的物质构成，从而使得由对象物体m和固定平板334之间的异物产生的外力通过固定平板334向下压缩弹性支承部332，通过弹性支承部332的变形被吸收。由此，可以防止对象物体m因位于固定平板334和对象物体m之间的异物而变形，并且可以与异物无关地恒定地保持对象物体m的沿第三方向iii的竖直位置。
66.弹性支承部332可由各种材料制成，只要弹性支承部332具有足够大的弹性并支承固定平板334以保持第一变型位置可变固定部330的外观即可。例如，弹性支承部332可以由聚硅氧烷碳酸酯、硅树脂、聚氨酯和橡胶中的任一种构成。
67.在本实施例中，弹性支承部332可提供为具有预定的环宽度wr并且沿着沟槽t连续延伸的沟槽环。因此，可以通过控制环宽度wr来控制布置在沟槽t中的沟槽环的数量。在本实施例中，公开了沿沟槽t的宽度方向以相同的间隔隔开布置的一对沟槽环，但不一定限于此，而弹性支承部332可以构成为具有足以形成弹性支承部332的物理性质和所需的弹性的适当数量的弹性环。因此，显而易见的是，只要在不致使固定平板334和对象物体m变形的情况下，能够将由异物导致的外力充分地吸收为弹性能量，则弹性支承部332可以由单个弹性环构成。
68.固定平板334可以由各种材料构成，只要能够抑制由通过异物f的外力而导致的固定平板334的变形，从而能够均匀地保持与对象物体m接触的固定表面331。例如，固定平板334可以由具有足够硬度的塑料或金属构成。
69.在本实施例中，固定平板334可以构成为沿沟槽t以预定间隔隔开的多个矩形平板。因此，固定平板334提供为具有与沟槽宽度w
t
基本相同的长度l、沿沟槽t的延伸方向的平板宽度w
p
、以及沿沟槽t具有预定厚度t的刚质平板。
70.矩形平板在呈矩形环形状的本体310的各侧边上以预定间隔配置为多个，并且在本体310的各拐角处以与拐角形状对应的形状布置。
71.因此，本体310的上表面311被以预定间隔排列的多个固定平板334覆盖，并且固定平板334由沿沟槽t连续延伸的环形弹性支承部332弹性支承。
72.此时，由于固定平板334沿沟槽t的延伸方向分隔成具有预定平板宽度w
p
，所以各固定平板334可以沿第三方向iii单独流动。
73.因此，当对象物体m固定在固定平板334的上表面上并且异物f仅位于特定的固定平板334上时，只有具有异物f的特定的固定平板334可以通过弹性支承部332的变形而向下收缩与异物f的厚度相对应的深度。除了收缩的固定平板334之外的其余固定平板334由于
没有被施加外力而不收缩，而是保持原来的初始状态，因此，对象物体m可以总是固定于恒定的竖直位置，而与异物的存在与否无关。
74.图5a是示出根据本发明又一实施例的台结构的平面图，且图5b是将图5a所示的台结构沿ii-ii'方向截取的截面图。除了将图4a和图4b中所示的本体以固定平板为单位分割而构成多个本体段之外，根据本发明又一实施例的台结构302具有与图4a和图4b中所示的台结构301基本相同的结构。因此，在图5a和图5b中，针对与图4a和图4b相同的构成要素，使用了相同的附图标记，并且将省略进一步详细的描述。
75.参照图5a和图5b，在根据本发明的又一实施例的台结构302中，本体310以固定平板334为单位被分割，以构成各个本体段315，并以本体段315为单位具有分割位置可变固定部330'。
76.例如，分割位置可变固定部330'包括本体段315、结合在本体段315上的分割弹性体336以及结合至分割弹性体336的固定平板334，并提供为用于固定对象物体m的固定单元su。
77.本体310和弹性支承部332以位于上方的固定平板334为单位被切割，从而分别形成为本体段315和分割弹性体336，且本体段315、分割弹性体336和固定平板334依次连接而被提供为分割位置可变固定部330'。
78.因此，多个分割位置可变固定部330'可以以预定间隔排列，以围绕开口o，并且可以沿第三方向iii彼此独立地收缩和膨胀。
79.由于对象物体m通过固定到分割位置可变固定部330'的各个固定平板334而与台结构302结合，因此分割位置可变固定部330'充当用于固定对象物体m的固定单元su。
80.当对象物体m结合至具有异物的固定表面331上时，由于异物而产生的外力仅使得相应固定单元su以足够吸收异物的厚度的程度发生弹性变形，从而使除了该固定单元su之外的其余固定单元su的竖直位置保持恒定不变。
81.因此，即使将对象物体m结合至具有异物的固定平板334，也可以与异物无关地保持对象物体m的竖直位置恒定。
82.尤其是，与具有围绕开口o的连续环形形状的本体310相比，本体段315的位置可以自由调整，从而可以以各种形状围绕开口o布置。因此，可根据供沉积物d穿过的各种开口o的形状，简单且快速地改变台结构302的形状。此外，通过适当地调节本体段315之间的间隔，可以由固定对象物体m所需的最小固定单元su构成台结构302，从而可以降低台结构302的制造成本。
83.图6a是示出根据本发明又一实施例的台结构的平面图，且图6b是放大图6a的部分a的放大立体图。除了具有包括多个固定件342和一对磁体344的第二变型位置可变固定部340之外，根据本发明又一实施例的台结构303具有与图1至图3所示的台结构300基本相同的结构。因此，在图6a和图6b中，针对与图1至图3相同的构成要素，使用了相同的附图标记，并且将省略进一步详细的描述。
84.根据本发明的又一实施例的台结构303包括第二变型位置可变固定部340，该第二变型位置可变固定部340包括：多个固定件342，其沿开口o以预定间隔排列；磁体344，其通过磁力使固定件342悬浮而与本体310分离；以及运动限制构件346，其限制固定件342相对于本体310的运动方向。
85.本体310提供为围绕开口o的闭环形状，并且在本体310的上部，第一磁体344a嵌入到与设置在固定件342上的第二磁体344b相对应的位置处。
86.此时，本体310提供为围绕开口o的各种形状的连续环形结构，并且本体310根据与位于其上方的固定件342对应的区域而彼此划分开。在本实施例中，本体310可由磁绝缘体构成，以使第一磁体344a的磁力线集中到设置在固定件342上的第二磁体344b上。例如，本体310可以由作为烧绿石型(pyrochlore)铱氧化物的钕铱氧化物(pyrochlore iridate(nd2ir2o7))构成。
87.例如，第一磁体344a可以提供为条状磁体，该条状磁体具有与本体310的宽度相对应的长度并沿本体310的延伸方向具有预定宽度，并且相对于本体310的上表面311具有预定深度。
88.尤其是，由于第一磁体344a与第二磁体344b成对地产生磁力，因此第一磁体344a可以具有适当结构和数量以具有与第二磁体344b相对应的结构。因此，虽然本实施例示出了两对第一磁体344a和第二磁体344b，但是这仅是示例性的，而且只要能够产生固定件342和本体310的悬浮所需程度的磁力，则可以提供为各种结构。
89.固定件342具有作为用于固定对象物体m的平坦的上表面的固定表面342a，并且由沿着本体310的长度方向以预定间隔隔开排列的多个块结构构成，第二磁体344b与第一磁体344a对应地嵌入并排列在固定件342的下表面上。
90.此时，固定件342也沿本体310排列，因此，提供为限定开口o的环形状，并且在结合对象物体m之前的初始状态下，各个固定件342的固定表面342a定位为形成基本相同的平面。
91.尤其是，固定件342提供为具有足够的刚性和上表面平整度，以将对象物体m固定到固定表面342a上并保持高平整度。另外，与本体310类似地，固定件342由足以防止磁力线扩散到第二磁体344b的周边的磁绝缘材料构成。在本实施例中，固定件342可以由与本体310类似的钕铱氧化物(nd2ir2o7)构成。然而，只要能够确保足够的刚性和磁绝缘性，则固定件342可以由各种材料构成。
92.尤其是，固定件342可以提供为各种形状和尺寸，只要可以通过具有足够平整度的固定表面342a固定对象物体m即可。在本实施例中，固定件342提供为具有与本体310相同的宽度且沿着本体310的长度方向具有适当长度的块结构，但只要能够提供能够充分地固定对象物体m的程度的固定表面342a和足以嵌入第二磁体344b的程度的充分的空间，则显然也可以提供为各种形状。例如，固定件342也可以提供为圆柱形状或圆锥形形状。
93.第二磁体344b具有与第一磁体344a的形状相对应的形状，并且嵌入到固定件342的下表面中，并且由具有与第一磁体344a的极性相同的极性的磁体构成。因此，第一磁体344a和第二磁体344b布置成彼此面对，并且它们之间的磁力用作相互排斥的排斥力。
94.本体310固定在下方的基础板上，因此通过上述排斥力使固定件342悬浮在空气中，从而定位成与本体310隔开预定距离。此时，可通过调节第一磁体344a和第二磁体344b的磁性来调节固定件342与本体310之间的间隔距离。
95.本体310和固定件342可以由磁绝缘材料构成，以将排斥力的施加方向调节为第一磁体344a和第二磁体344b之间的竖直方向，从而限制固定件342沿第三方向iii悬浮。因此，即使固定件342由于施加的排斥力相对于本体310悬浮，也不会破坏固定表面342a的平整
度，并且可以恒定地保持对象物体m的竖直位置。
96.在一实施例中，第一磁体344a和第二磁体344b可以由永磁体或电磁体中的任一者构成。
97.运动限制构件346布置在本体310的一侧，并且结合到固定件342，以将固定件342的运动限制为沿第三方向iii的线性运动。
98.例如，可以布置从第一磁体344a的外围的上表面311突出并固定到固定件342的多个突出销。此时，在固定件342的下表面中可以布置有能够容纳上述突出销的凹陷部或孔，从而允许突出销沿着第三方向iii进行线性移动，但以第一方向i或第二方向ii为中心的弯曲或以第三方向iii为中心的旋转受到限制。因此，固定件342仅允许沿垂直于上表面311的方向的线性运动，从而与上表面311平行地沿高度方向执行由磁力引起的悬浮。
99.因此，运动限制构件346可由各种形状和材料构成，只要运动限制构件346能够提供足以限制固定件342的运动的阻力即可。例如，运动限制构件346可以由具有比固定件342足够大的硬度和刚性的金属或塑料构成。
100.尤其是，所布置的突出销的长度可以大于上述本体310和固定件342之间的最大间隔距离，因此，可以设置为即使固定件342相对于本体310悬浮最大距离，也可以插入到固定件342的内部。
101.在台结构303的初始设置中，设置为使固定件342从本体310悬浮至均匀的高度，并使各个固定表面342a形成单个平面。
102.此时，当对象物体m与台结构303结合并且在固定件342的一部分上具有异物时，具有异物的固定件342向下移动相当于异物的厚度的距离，从而防止固定件342本身由于异物f而变形。因此，可以防止固定在固定件342上的对象物体m的变形。
103.尤其是，通过控制第一磁体344a和第二磁体344b的磁性特性，设置为具有能够充分敏感地应对异物的程度的磁力敏感性。
104.在初始设置状态下，本体310和固定件342的磁力敏感性可设置为使本体310和固定件342通过磁力保持动态平衡状态，并且使能够打破动态平衡状态的外力具有位于固定件342上的异物f的典型载荷范围。
105.因此，通过以具有异物f的固定件342为单位自动设置与本体310的间隔距离，可以充分防止固定件342及固定于固定件342上的对象物体m的变形。
106.即，固定件342和磁体344充当用于固定对象物体m的固定单元su，并且由异物引起的台结构303的变形对于每个固定单元su单独地发生。因此，尽管在进行结合时在台结构303与对象物体m之间存在异物f，但是对象物体m仍可以通过整个台结构303保持均匀的形状。
107.图7a是示出根据本发明又一实施例的台结构的平面图，且图7b是放大图7a的部分a的放大立体图。除了图6a和图6b所示的本体310以固定件342为单位被分割以构成多个本体段315之外，根据本发明又一实施例的台结构304具有与图6a和图6b所示的台结构303基本相同的结构。因此，在图7a和图7b中，针对与图6a和图6b相同的构成要素，使用了相同的附图标记，并且将省略进一步详细的描述。
108.参照图7a和图7b，在根据本发明又一实施例的台结构304中，本体310以固定件342为单位被分割以分别构成本体段315，且第二变型位置可变固定部340分别布置在各本体段
315上。
109.因此，第二变型位置可变固定部340和本体段315以一一对应的方式结合，并被提供为用于固定对象物体m的固定单元su。因此，多个固定单元su可以围绕开口o以预定间隔排列，并且可以沿第三方向iii彼此独立地收缩和膨胀。
110.例如，本体段315被分割为具有与固定件342相同的尺寸，以与固定件342一起提供为台结构304的上部结构和下部结构，并且通过设置在单个上部结构和下部结构之间的具有相同极性的磁体构成台结构304的单元台。即，台结构304具有多个单元台围绕开口o布置的结构，其中单元台具有通过磁体隔开预定距离的本体段315和固定件342。
111.因此，通过自由地调整单元台的位置，并以各种形状围绕开口o布置，从而可以根据供沉积物d穿过的开口o的形状简单且快速地改变台结构304的形状。此外，通过适当地调节单元台之间的间距，可以使固定对象物体m所需的单元台的数量最小化，从而可以降低台结构304的制造成本。
112.图8是示出根据本发明实施例的具有台结构的沉积装置的结构图。
113.参照图8，根据本发明一实施例的沉积装置1000包括：腔室100，其下部具有用于喷射沉积物d的喷射器110，并且具有用于真空沉积工艺的沉积空间s；基准平板200，其布置为从腔室100的底部延伸以围绕喷射器110，并且在腔室100的内部提供水平基准面；可移动台(以下称为“台”)300，其具有与待后述的喷射空间连通的开口o，并且固定到基准平板200，以能够沿垂直于基准平板200的竖直方向进行相对运动；以及掩模组件400，其固定到台300，并且具有掩模图案410，该掩模图案410贴合至衬底g以在衬底g上选择性地沉积沉积物d从而形成图案结构。
114.例如，腔室100提供为立体结构，该立体结构具有作为与外部隔离的密封空间的沉积空间s，并且具有足够的强度和刚性以能够充分执行真空沉积工艺。在腔室100的下部固定有具有沉积源ds的喷射器110，并且布置有用于固定内部基准平板200的下部基材101。
115.考虑到从喷射器110喷射的沉积源ds的喷射效率，下部基材101可以提供为适当的形状。在本实施例中，下部基材101具有圆锥形状的中央凹陷部，并且在中央凹陷部的中央部分处布置有喷射器110。
116.从下部基材101延伸的基础框架102覆盖腔室100的侧壁，并提供为用于固定待后述的运载体传送机800的驱动基座。
117.喷射器110可以包括：容器112，包括沉积源ds；以及加热器，加热沉积源ds以形成气相沉积物d。由加热器加热并蒸发为气相的沉积物d通过喷嘴114被喷射到掩模组件400上。
118.尤其是，腔室100内部的沉积空间s保持足够的真空状态，以能够确保从喷嘴114喷射的沉积物d的直线性，并且可以防止在沉积过程中水分的渗透。
119.基准平板200固定在腔室100下部的下部基材101上，并设置成具有与腔室100的底表面平行的上表面，从而在腔室100内部提供水平基准面。
120.例如，基准平板200分开或一体地提供于下部基材101上，并通过精密加工使上表面平坦，从而形成高精度的水平面。因此，基准平板200的上表面布置成与腔室100的底部平行且垂直于腔室100的侧壁，从而提供为固定到基准平板200上的台300和掩模组件400的水平基准面。
121.基准平板200由具有充分的刚性和厚度的结构体形成，并构成为在进行真空沉积工艺期间对于反复的收缩和膨胀具有充分的阻力。因此，可以充当用于确定腔室100内部的水平位置和竖直位置的基准面。
122.另外，基准平板200可以布置为围绕喷射器110，以限定用于喷射通过喷嘴114喷射的沉积物d的喷射空间。在本实施例中，基准平板200形成为能够扩大的倒梯形，并构成为能够朝向掩模组件400扩大喷射空间。基准平板200的形状和结构可以根据沉积装置1000的沉积特性和沉积物d的喷射特性而进行各种变型。
123.台300固定在作为基准平板200的上表面的水平基准面上，并稳定地支承和固定位于台300的上方的掩模组件400。因此，掩模组件400可通过台300固定于腔室100内部，同时保持高精度的水平状态。
124.掩模组件400与衬底g结合，并从上部向下移动，并以对齐引导件(aligning guide)为基准结合到台300上。因此，掩模组件400和衬底g与基准平板200的水平基准面平行地固定在台300上。
125.此时，当未充分地去除台300上的异物时，由于衬底g与掩模组件400的结合体的荷重，上述异物对掩模组件400和台300施加外力。
126.当由异物引起的外力导致掩模组件400变形时，即使掩模组件400根据基准平板200的水平基准面固定在台300上，掩模组件400的水平状态也会在具有异物的区域中失衡。因此，在随后的沉积工艺中，可能会发生未沉积到准确位置上的沉积缺陷。
127.在本实施例中，与掩模组件400相比，台300设置有足够高的对外力的敏感性。因此，当外力施加在台300和掩模组件400之间时，由外力导致的变形中的大部分被台300吸收，并且抑制了掩模组件400的变形。
128.因此，即使被施加由异物引起的外力时，也可以防止掩模组件400的水平状态的破坏，从而可以充分地防止沉积缺陷。
129.在一实施例中，台300可以构成为能够沿第三方向iii相对于掩模组件400进行相对运动的可移动台，并且可以设置为具有比掩模组件400足够大的外力敏感性。
130.在本实施例中，台300可以具有与参考图1至图7b描述的台结构300至304基本相同的结构。因此，将省略对台300的进一步详细的描述。
131.尤其是，在图8中，示出了台300由围绕供沉积物d穿过的开口o的连续的环形状的本体310和第二变型位置可变固定部340构成，但这仅为示例性的，且可以构成为如上所述的台结构的各种实施例。
132.掩模组件400可以由在衬底g上形成图案结构的掩模图案410和固定掩模图案410并被固定到台300上的掩模框架420构成。
133.掩模图案410通过传统的精细金属掩模(fmm)工艺提供为图案条纹形状，并且多个图案条纹固定到单个掩模框架420以构成掩模组件400。因此，掩模组件400提供为其中多个掩模图案410固定到单个掩模框架420的形态。
134.从喷嘴114喷射的沉积物d根据掩模图案410的形状沉积在衬底g上，并在衬底g的表面上形成图案结构。沉积物d可以根据形成在衬底g上的图案结构的特性而以各种方式提供。
135.例如，衬底g可以是用于制造有机发光二极管(oled)显示装置的结合衬底。结合衬
底可以由载体玻璃和涂覆在所述载体玻璃上并且在其表面上形成有薄膜晶体管的聚酰亚胺(pi)衬底构成。此时，沉积物d可以包括用于在聚酰亚胺衬底上形成有机发光层的有机物。
136.与此不同地，当处理用于制造大型显示装置的母衬底时，衬底g也可以由大面积的母玻璃构成。在这种情况下，沉积物d可以选择为适合于大型显示装置的制造步骤的适当物质。
137.形成有第一电极层的衬底g被固定到诸如静电吸盘或机械保持架的衬底固定装置600，并且掩模组件400紧贴至衬底g的表面。衬底固定装置600与通过运载体传送器800驱动的运载体700结合，并被提供至腔室100。因此，衬底g和掩模组件400的结合体被提供到沉积装置1000的腔室100中。
138.当开始沉积工艺时，衬底g和掩模组件400的结合体向下移动到台300的上部，并固定到固定表面321，且沉积物d根据掩模图案410的形状在衬底g的表面上形成提供为中间层或第二电极层的图案结构。
139.此时，即使在掩模组件400和台300之间残留有异物，掩模组件400的平整度也保持不变，从而可以防止衬底g的沉积缺陷。
140.在本实施例中，虽然公开了衬底g和掩模组件400的结合体结合到台300的情况，但这仅为示例性的，且显而易见的是，首先将掩模组件400固定到台300上并将衬底g紧贴至掩模组件400的情况下，也可以应用本发明。
141.尤其是，当台300由包括电磁体的磁体344构成时，还可以包括水平调节器500，该水平调节器500通过自动调节本体310或本体段315与固定件342之间的悬浮距离(间隔距离)来调节掩模组件400的平整度。
142.例如，水平调节器500可包括：检测器510，用于检测位于台300和掩模组件400之间的异物；以及控制器520，用于控制电磁体的磁力，以减小与所述异物对应的固定件342与本体310/本体段315之间的距离。
143.检测器510可位于腔室100的内部或外部，以检测掩模组件400与台300之间的异物。在本实施例中，检测器510可以由在腔室100内部与掩模组件400相邻定位的图像拍摄相机或与异物的物理和化学性质反应的检测传感器构成。
144.控制器520可以与检测器510和由电磁体构成的磁体344连接，以对应于异物的厚度而减少磁体344的排斥力，从而可以使固定件342向下移动。
145.因此，具有异物的固定件342向下移动相当于异物的厚度的距离，而没有异物的其余固定件342保持其原始位置，从而可以通过开口o的整个外周均匀地保持固定在固定件342上的掩模组件400的竖直位置。
146.因此，当衬底g和掩模组件400的结合体结合到台300上时，即使在未充分去除台300上方的异物的情况下，也可通过可移动台300的变形来吸收由异物产生的全部外力，从而基本上防止由异物而导致的掩模组件400的变形。因此，可以显著地降低针对衬底g的沉积工艺的缺陷可能性。
147.通过如上所述的可移动台300和具有该可移动台300的沉积装置1000，在将衬底g和/或掩模组件400固定到残留有异物的台300上时，可以通过台300的变形来吸收由异物产生的全部外力，从而可以防止掩模组件400变形。因此，即使被施加由异物产生的外力时，也
可以防止掩模组件400的水平状态被破坏，从而可以充分地防止衬底g的沉积缺陷。
148.此时，台300可以通过使用弹性体或磁悬浮结构，根据异物所在的区域局部地自动向下收缩或向下移动相当于异物的厚度的距离，从而使固定在台300上的掩模组件400的竖直位置保持一致。即，通过充分地抑制掩模组件400由于掩模组件400与台300之间的异物而变形，可以防止由于掩模组件400的平整度缺陷而导致的衬底的沉积缺陷。
149.以上参照本发明的优选实施例进行了说明，但本领域熟练的技术人员应当理解，在不脱离权利要求书中记载的本发明的精神和范围的范围内，可以对本发明进行各种修改及变更。