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光学元件重力形变抑制装置及抑制方法与流程

时间:2022-02-10 阅读: 作者:专利查询

光学元件重力形变抑制装置及抑制方法与流程

1.本发明属于光学装配调试技术领域,具体涉及一种光学元件重力形变抑制装置及抑制方法。


背景技术:

2.在大型光学系统中,常需要在倾斜姿态下使用大口径光学元件进行光路中继传输,光学元件在倾斜姿态下极易产生重力形变,导致元件面形波前畸变,尤其是对于大径厚比的光学元件,其重力形变表现得更加明显,如果不能采取有效方法抑制重力形变,若用在激光装置中,重力形变会直接影响输出的光斑质量和打靶精度,若用在望远系统中,重力形变会产生像差,最终导致目标成像位置与实际位置产生偏差且成像不清晰。
3.在现有技术中,用于补偿重力形变的手段主要包括背部支撑、正面夹持等。其中,背部支撑方式需要在元件上开孔、装配机械胀套等,过程复杂,对装配要求高,且存在元件崩裂风险。正面夹持方式对夹持装置加工要求高,载荷控制均匀性要求高,并且元件在离线装配完后还需采用干涉仪进行面形测量,由于干涉仪标准镜水平放置也会有重力形变,故一般干涉仪通常只能对竖直姿态放置的元件面形进行测量,有的为了实现元件倾斜姿态面形测量,通过扫描拼接的方式进行测量,但是对扫描稳定性、扫描定位精度、拼接算法精度等要求高,且效率低。


技术实现要素:

4.为避免补偿重力形变所存在的上述问题,本发明提供一种光学元件重力形变抑制装置,采用气悬浮技术,可适用于抑制水平姿态和倾斜状态的光学元件重力变形,通用性较强。
5.为实现上述目的,本发明技术方案如下:
6.一种光学元件重力形变抑制装置,其关键在于:包括元件夹持框,所述元件夹持框内部安装有气浮板,所述气浮板上分布有第一气孔和第二气孔,其中,所述第一气孔沿气浮板的周向分布,第二气孔分布在各个所述第一气孔围成的区域内,所述第一气孔连接有压缩空气气源,第二气孔连接有压缩空气气源或真空发生器;所述元件夹持框远离气浮板的一侧具有安装敞口,用于装配光学元件,所述安装敞口的周向侧壁上设有螺纹定位部件。
7.采用上述结构,无论光学元件工作反射面是朝上水平放置、朝上倾斜放置、朝下水平放置或朝下倾斜放置,均可通过正向吹气和/或负压吸气来达到抑制元件重力形变的目的,并且是非接触式抑制方式,元件无任何损伤风险。
8.作为优选:所述螺纹定位部件为胶头顶丝。
9.作为优选:所述元件夹持框为矩形框,其四侧各安装有两个所述胶头顶丝。
10.作为优选:所述气浮板为矩形结构,各个所述第一气孔在气浮板上表面呈矩形环状分布,各个所述第二气孔呈矩形阵列分。
11.作为优选:所述元件夹持框在对应安装敞口的边缘位置设有挡块。
12.本发明还提供了一种重力形变抑制方法,包括上述光学元件重力形变抑制装置,其方法在于:将光学元件安装在元件夹持框的安装敞口位置,并使各个螺纹定位部件抵接在光学元件的侧部。
13.采用上述方法,能够以非接触的方式达到抑制光学元件重力形变的目的。
14.作为优选:所述螺纹定位部件抵接在光学元件侧部的正中间。
15.与现有技术相比,本发明的有益效果是:
16.1、能够以非接触的方式达到抑制光学元件重力形变的目的,适用于工作反射面朝上水平放置、朝上倾斜放置、朝下水平放置或朝下倾斜放置的任一光学元件,通用性好。
17.2、对光学元件侧部中间位置采用胶头顶丝适度夹持,可防止元件横向移动,且对元件面形无影响。
18.3、不局限于元件的口径,可实现对任何形状元件的重力形变进行抑制。
19.4、可适用于多种材质的元件重力形变抑制,如:磷、硅酸盐玻璃、金属、陶瓷等。
20.5、可根据需要设置真空发生器压力,将元件面形校成平型、凹型或凸型等目标形状。
附图说明
21.图1为重力形变抑制装置的俯视图;
22.图2为重力形变抑制装置的使用状态参考图光学元件工作面朝上;
23.图3为重力形变抑制装置的使用状态参考图光学元件工作面45
°
朝上;
24.图4为重力形变抑制装置的使用状态参考图光学元件工作面朝下;
25.图5为重力形变抑制装置的使用状态参考图光学元件工作面45
°
朝下;
26.图6为重力形变抑制装置应用于干涉仪测量元件倾斜姿态面形的示意图。
具体实施方式
27.以下结合实施例和附图对本发明作进一步说明。
28.如图1所示,一种光学元件重力形变抑制装置,主要由元件夹持框1和气浮板2组成,从图2可以看出,元件夹持框1为矩形框结构,气浮板2安装在元件夹持框1的内部,元件夹持框1远离气浮板2的一侧具有安装敞口3,安装敞口3的四侧各安装有两个螺纹定位部件4,在本实施例中,螺纹定位部件4优选采用胶头顶丝。
29.气浮板2上分布有第一气孔2a和第二气孔2b,第一气孔2a沿气浮板2的周向分布,并围成矩形环状结构,第二气孔2b分布在矩形环状结构所限定的区域内,各个第二气孔2b呈矩形阵列分,其中,第一气孔2a连接有压缩空气气源,第二气孔2b以择一的方式连接有压缩空气气源或真空发生器。
30.请参图2,当待抑制光学元件6工作反射面朝上水平放置使用姿态时,其重力抑制的工作原理为:
31.将光学元件6安装在元件夹持框1的安装敞口3位置,气浮板2上的第一气孔2a和第二气孔2b均与外部压缩空气气源连接,接通压缩空气并向光学元件6底部吹气,使光学元件6悬浮起来,调整胶头顶丝使之与光学元件6侧面刚好接触,以防止光学元件6横向移动,元件实现自平衡,悬浮力与光学元件6重力相等,将光学元件6重力抵消,从而实现了光学元件
重力抑制,达到抑制元件重力形变的目的。
32.请参图3,当待抑制光学元件6工作反射面朝上45
°
倾斜放置使用姿态时,其重力抑制的工作原理为:
33.将光学元件6安装在元件夹持框1的安装敞口3位置,气浮板2上的第一气孔2a和第二气孔2b均与外部压缩空气气源连接,接通压缩空气并向光学元件6底部吹气,光学元件6沿着表面法线方向悬浮起来,光学元件6一半的重力与悬浮力抵消,另一半的重力由下边缘胶头顶丝支撑,胶头顶丝抵接在光学元件6侧部的正中间,由于胶头顶丝所在平面处于光学元件6中性面上,对光学元件6面形影响很小,故实现了光学元件6重力抑制,从而达到抑制元件重力形变的目的。
34.请参图4,当待抑制光学元件6工作反射面朝下水平放置使用姿态时,其重力抑制的工作原理为:
35.将光学元件6安装在元件夹持框1的安装敞口3位置,气浮板2上的第一气孔2a连接压缩空气气源,第二气孔2b连接真空发生器,然后接通压缩空气,第一气孔2a往外吹气,第二气孔2b往内吸气,通过调整真空发生器的工作压力,实现吸附力大小的控制,气浮板2中间的真空吸附力以边缘喷出的压缩空气气体压力为支点,将光学元件6向上提拉,但不接触光学元件6,将光学元件6重力抵消,此时再调整胶头顶丝使之与光学元件6侧面刚好接触,以防止元件横向移动,从而达到抑制元件重力形变的目的。
36.请参图5,当待抑制光学元件6工作反射面朝下45
°
倾斜放置使用姿态时,其重力抑制的工作原理为:
37.将光学元件6安装在元件夹持框1的安装敞口3位置,气浮板2上的第一气孔2a连接压缩空气气源,第二气孔2b连接真空发生器,然后接通压缩空气,第一气孔2a往外吹气,第二气孔2b往内吸气,通过调整真空发生器的工作压力,实现吸附力大小的控制,气浮板2中间的真空吸附力以边缘喷出的压缩空气气体压力为支点,将光学元件6沿着表面法向方向提拉,但不接触光学元件6,将光学元件6部分重力抵消,另一部分的重力由下边缘胶头顶丝支撑,由于胶头顶丝所在平面位于元件中性面上,对元件面形影响很小,故实现了光学元件6重力抑制,达到抑制光学元件6重力形变的目的。
38.重力形变抑制装置还可用于干涉仪测量光学元件的倾斜姿态面形,其应用布局请参图6所示,在该图中,元件夹持框1的安装敞口3位置安装有标准镜8,待测光学元件6位于干涉仪7与标准镜8之间的反射光路上。
39.再如图4和5所示,在元件工作反射面朝下水平放置或朝下45
°
倾斜放置时,为了防止元件跌落,在元件夹持框1在对应安装敞口3的边缘位置设有挡块5。
40.最后需要说明的是,上述描述仅仅为本发明的优选实施例,本领域的普通技术人员在本发明的启示下,在不违背本发明宗旨及权利要求的前提下,可以做出多种类似的表示,这样的变换均落入本发明的保护范围之内。