首页 > 摄影电影 专利正文
一种抗菌减反射膜片的制作方法

时间:2022-01-23 阅读: 作者:专利查询

一种抗菌减反射膜片的制作方法

1.本实用新型涉及显示屏技术领域,特别涉及一种抗菌减反射膜片。


背景技术:

2.微生物在我们生活中无处不在,其会在材料表面黏附生产,形成生物被膜,该现象存在于各种电子产品、车载产品、航空、船舰等等表面。生物被膜中细菌的代谢活动可能腐蚀材料、植人物感染等。有效抑制细菌生物被膜的形成,在减少由生物被膜引起的经济损失、降低植人物感染等方面有重要意义。


技术实现要素:

3.本实用新型提出一种抗菌减反射膜片,主要用于车载中控屏和笔电显示屏等。
4.为了实现以上目的,本实用新型采用的技术方案为:
5.一种抗菌减反射膜片,从下至上依次包括离型膜、胶黏层、基材、防眩光层、微纳结构层、减反射层、防指纹层,上层覆盖在下层,所述微纳结构层包括周期排布的微凸起结构,所述微凸起结构的平面纹理形成单元图形,相邻两个微凸起结构之间为沟槽结构,所述沟槽结构的宽度小于2um,高度小于3um,所述微纳结构层内添加加抗菌材料。
6.本实用新型的进一步技术:
7.优选的,所述基材正面通过卷对卷涂布工艺制备防眩光层。
8.优选的,所述微纳结构层通过卷对卷uv压印工艺制备在防眩光层上。
9.优选的,所述减反射层是通过卷对卷溅射工艺在微纳结构层上镀单层或多层不同折射率、不同厚度的膜层。
10.优选的,所述防指纹层通过涂布方式在减反射层上制备防指纹层。
11.优选的,所述单元图形包括菱形、矩形、圆形、三角形以及组合图形中的至少一种。
12.优选的,所述防眩涂层中添加有抗菌材料。
13.本实用新型具有以下有益效果:
14.本实用新型优势是结合uv转印微纳结构使产品表面具有抗菌效果,提高ar膜的附加值,不仅具有防眩光、减反射还具有抗菌性;
15.微纳结构结合在uv胶或防眩硬化液内添加一定比例的抗菌材料,可提高产品表面的抗菌效果。
附图说明
16.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
17.图1为本实用新型一种抗菌减反射膜片示意图;
18.图2是本实用新型一个实施例提供的纹理的平面示意图;
19.图3是本实用新型一个实施例提供的膜片剖视图;
20.图4是本实用新型另一个实施例提供的膜片的剖视图。
具体实施方式:
21.下面将结合本实用新型实施例,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
22.如图1,一种抗菌减反射膜片,包括离型膜1、胶黏层2、基材3、防眩光层4、微纳结构层5、减反射层6、防指纹层7,所述胶黏层设在基材背面,所述离型膜贴在胶黏层上,所述基材正面通过卷对卷涂布工艺制备防眩光层,所述微纳结构层通过卷对卷uv压印工艺制备在防眩光层上,所述减反射层是通过卷对卷溅射工艺在微纳结构层上镀单层或多层不同折射率、不同厚度的膜层,所述防指纹层通过涂布方式在减反射层上制备防指纹层。
23.如图2,所述微纳结构层包括周期排布的微凸起结构8,所述微凸起结构的平面纹理形成单元图形,相邻两个微凸起结构之间为沟槽结构,所述沟槽结构的宽度小于2um,高度小于3um。
24.单元图形可以是周期的或非周期的,每个单元图形内有多个周期变化的微凸起结构8,即微纹理结构。
25.单元图形包括菱形、矩形、圆形、三角形以及组合图形中的至少一种。示例性的,图2中的单元图形为菱形。
26.由于大多数细菌的大小在0.5-5um,根据模具设计的工艺极限,将沟槽结构9的宽度设计为小于2um,高度设计为小于3um,即使有细菌掉落到纹理的缝隙,沟槽结构9会将细菌个体分开,让细菌难以成群,细菌之间无法互相供给养分,难以繁殖,便很快死去,大大减少了人与细菌接触的概率,使得产品表面能够长久保持清洁。
27.微凸起结构8同时还可以增加触感功能。
28.微纳结构层5通过uv转印工艺转印到基材3上。
29.通过uv转印工艺将微凸起结构8和沟槽结构9组成的微纹理转印到基材3上,工艺简单。
30.如图3,所述基材3正面通过卷对卷涂布工艺制备防眩光层4,所述微纳结构层5通过卷对卷uv压印工艺制备在防眩光层上,用于转印微纳结构层5的uv胶中添加有抗菌材料10。示例性的,在uv 胶内直接添加0.1%-1%的抗菌材料提高抗菌性。
31.如图4,所述基材3正面通过卷对卷涂布工艺制备防眩光层4,防眩涂层的硬化液中添加有抗菌材料10。添加比例按照实际需求进行添加。
32.所述微纳结构层5通过卷对卷uv压印工艺制备在防眩光层上,用于转印微纳结构层5的uv胶中添加有抗菌材料10。示例性的,在 uv胶内直接添加0.1%-1%的抗菌材料提高抗菌性。
33.以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型
要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。


技术特征:
1.一种抗菌减反射膜片,其特征在于:从下至上依次包括离型膜、胶黏层、基材、防眩光层、微纳结构层、减反射层、防指纹层,上层覆盖在下层,所述微纳结构层包括周期排布的微凸起结构,所述微凸起结构的平面纹理形成单元图形,相邻两个微凸起结构之间为沟槽结构,所述沟槽结构的宽度小于2um,高度小于3um。2.根据权利要求1中所述的一种抗菌减反射膜片,其特征在于:所述基材正面通过卷对卷涂布工艺制备防眩光层。3.根据权利要求1中所述的一种抗菌减反射膜片,其特征在于:所述微纳结构层通过卷对卷uv压印工艺制备在防眩光层上。4.根据权利要求1中所述的一种抗菌减反射膜片,其特征在于:所述减反射层是通过卷对卷溅射工艺在微纳结构层上镀单层或多层不同折射率、不同厚度的膜层。5.根据权利要求1中所述的一种抗菌减反射膜片,其特征在于:所述防指纹层通过涂布方式在减反射层上制备防指纹层。6.根据权利要求1中所述的一种抗菌减反射膜片,其特征在于:所述单元图形包括菱形、矩形、圆形、三角形以及组合图形中的至少一种。

技术总结
本实用新型公开了一种抗菌减反射膜片,从下至上依次包括离型膜、胶黏层、基材、防眩光层、微纳结构层、减反射层、防指纹层,上层覆盖在下层,所述微纳结构层包括周期排布的微凸起结构,所述微凸起结构的平面纹理形成单元图形,相邻两个微凸起结构之间为沟槽结构,所述沟槽结构的宽度小于2um,高度小于3um,所述微纳结构层内添加加抗菌材料。本实用新型优势是结合UV转印微纳结构使产品表面具有抗菌效果,提高AR膜的附加值,不仅具有防眩光、减反射还具有抗菌性。具有抗菌性。具有抗菌性。


技术研发人员:李廷钢 马培婷
受保护的技术使用者:安徽胜利精密制造科技有限公司
技术研发日:2021.07.01
技术公布日:2022/1/21