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专利摘要

本发明公开了一种有序图案化多孔金刚石薄膜及其制备方法和用途。
所述多孔金刚石薄膜包括微米尺度的有序图案化孔洞以及微米金刚石薄膜;所述孔洞的底面中空,所述微米金刚石薄膜连续分布在孔洞的底面边缘、侧壁以及非孔洞的位置。
所述方法包括:1)采用纳米压印方法在基底上获得有序图案化的孔洞,得到图案化的基底;2)采用微波等离子体化学气相沉积方法,在基底上沉积生长微米金刚石薄膜,得到有序图案化多孔金刚石薄膜。
本发明的金刚石薄膜在厚度方向上均匀致密、表面多孔结构空间尺寸可控可调,有效实现了金刚石超硬涂层表面的大面积图案化薄膜的制备和生长。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010611752.7
申请日
2020-06-29
公开日
2020-12-01
公开号
CN112011784A
主分类号
/B/B01/ 作业;运输
标准类别
一般的物理或化学的方法或装置
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

王晓飞 许佼 李玉磊 邬苏东 任富增 赵予生

申请人

南方科技大学

申请人地址

518055 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号

专利摘要

本发明公开了一种有序图案化多孔金刚石薄膜及其制备方法和用途。
所述多孔金刚石薄膜包括微米尺度的有序图案化孔洞以及微米金刚石薄膜;所述孔洞的底面中空,所述微米金刚石薄膜连续分布在孔洞的底面边缘、侧壁以及非孔洞的位置。
所述方法包括:1)采用纳米压印方法在基底上获得有序图案化的孔洞,得到图案化的基底;2)采用微波等离子体化学气相沉积方法,在基底上沉积生长微米金刚石薄膜,得到有序图案化多孔金刚石薄膜。
本发明的金刚石薄膜在厚度方向上均匀致密、表面多孔结构空间尺寸可控可调,有效实现了金刚石超硬涂层表面的大面积图案化薄膜的制备和生长。

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