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专利摘要

公开了一种复合膜,其包含:在25℃下具有500Barrer以上的H2透过系数的聚合物膜;和通过氧化聚合而沉积在所述聚合物膜上的涂层。

专利状态

基础信息

专利号
CN201680040783.3
申请日
2016-07-12
公开日
2018-03-27
公开号
CN107847874A
主分类号
/B/B01/ 作业;运输
标准类别
一般的物理或化学的方法或装置
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
暂失效-视为撤回

发明人

依尚·希瓦尼阿 贝南·加雷 乐优凤

申请人

CO2 M-TECH株式会社 国立大学法人京都大学

申请人地址

日本东京

专利摘要

公开了一种复合膜,其包含:在25℃下具有500Barrer以上的H2透过系数的聚合物膜;和通过氧化聚合而沉积在所述聚合物膜上的涂层。

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