本发明公开了一种适用于大口径光学元件的抛光液供给回收抛光工具头装置，涉及光学元件高效抛光技术领域。
抛光液供给回收抛光工具头装置采用沿抛光盘轴向中通孔进液方式通入抛光液，并在抛光盘边缘外侧将抛光液回收，抛光液封闭在装置内部，显著增大了抛光液的循环利用率。
同时本装置的抛光垫采用径向和周向凹槽，使抛光液在输送压力和工具自转离心力作用下进入加工区域，工具头自转转速越高，越利于抛光液进入加工区域，与自转方向相同的螺旋槽还能有效增加抛光磨料在加工区域的驻留时间，提高了抛光液向加工区域的扩散渗透性和均匀分布性，可有效提升材料去除效率和均匀性，保证去除函数的稳定一致，提升光学加工确定性。

辛强 刘海涛 万勇建

中国科学院光电技术研究所

610209 四川省成都市双流350信箱

本发明公开了一种适用于大口径光学元件的抛光液供给回收抛光工具头装置，涉及光学元件高效抛光技术领域。
抛光液供给回收抛光工具头装置采用沿抛光盘轴向中通孔进液方式通入抛光液，并在抛光盘边缘外侧将抛光液回收，抛光液封闭在装置内部，显著增大了抛光液的循环利用率。
同时本装置的抛光垫采用径向和周向凹槽，使抛光液在输送压力和工具自转离心力作用下进入加工区域，工具头自转转速越高，越利于抛光液进入加工区域，与自转方向相同的螺旋槽还能有效增加抛光磨料在加工区域的驻留时间，提高了抛光液向加工区域的扩散渗透性和均匀分布性，可有效提升材料去除效率和均匀性，保证去除函数的稳定一致，提升光学加工确定性。