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专利摘要

本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法,1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理;2)将光学元件安装在夹具后,对光学元件和夹具的表面进行清洁处理,随后放入离子束抛光设备的副腔室内,最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内;3)安装离子源,离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网;4)开启离子束抛光设备,启动离子源,使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流,待离子源运行一定设定时间t稳定后,对光学元件进行离子束抛光。
采用该方法,离子束加工后光学元件表面洁净,有效抑制污染,提高加工质量。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910844111.3
申请日
2019-09-06
公开日
2020-01-21
公开号
CN110712094A
主分类号
/B/B24/ 作业;运输
标准类别
磨削;抛光
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

王大森 李晓静 聂凤明 裴宁 郭海林 张旭

申请人

中国兵器科学研究院宁波分院

申请人地址

315103 浙江省宁波市高新区凌云路199号

专利摘要

本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法,1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理;2)将光学元件安装在夹具后,对光学元件和夹具的表面进行清洁处理,随后放入离子束抛光设备的副腔室内,最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内;3)安装离子源,离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网;4)开启离子束抛光设备,启动离子源,使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流,待离子源运行一定设定时间t稳定后,对光学元件进行离子束抛光。
采用该方法,离子束加工后光学元件表面洁净,有效抑制污染,提高加工质量。

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